Gebraucht ULVAC ULDIS-200UCP #9266626 zu verkaufen

ULVAC ULDIS-200UCP ist eine leistungsstarke Magnetron-Sputteranlage, die einen stabilen und qualitativ hochwertigen Sputterprozess bietet. Es besteht aus einer 200mm Durchmesser, 6-Target-Konfiguration mit einem großen Außendurchmesser und gleichmäßiges Sputtern. Die optimierte Plasma-Erzeugungstechnologie und die fortschrittliche Kathoden-Material-Technologie ermöglichen spannungsarmes und deformationsarmes Sputtern und sorgen für stabile und zuverlässige wiederholbare Prozesse. ULDIS-200UCP verfügt über ein hochgenaues Delta-Zieldrehsystem und einen 6-Achsen-Roboterhäcksler. Darüber hinaus ermöglicht die offene Kammerkonstruktion und die hocheffiziente 5-stufige Trockenfiltrationseinheit eine verbesserte Abscheidungsgleichmäßigkeit auch auf Substraten mit komplexen Formen. Es verfügt auch über eine hochpräzise geschlossene Temperaturregelmaschine, die eine präzise Temperaturregelung ermöglicht. ULVAC ULDIS-200UCP verfügt zudem über eine Mehrprozessunterstützungsstruktur, die eine koordinierte Steuerung des Prozessdruckbereichs und des Vakuumbereichs ermöglicht. Dies macht es zu einer effizienten Maschine für Sputteranwendungen wie Dünnschichtabscheidungen. Darüber hinaus kann sein Auto-Tuning-Tool unabhängig die Prozessparameter für jedes Ziel abstimmen, was eine optimierte und stabile Sputterleistung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt dieser Vermögenswert über einen integrierten Energierückgewinnungsmechanismus, der die erzeugten zerstäubten Partikel zurückgewinnen und wiederverwenden kann, was zu weniger Abfall und geringeren Kosten führt. Dieses Modell verfügt auch über hochmoderne Sicherheitsfunktionen wie den eingebauten Temperaturalarm, Druckerkennungssensoren und Überlastschutz. Darüber hinaus ermöglicht die erweiterte Software-Suite Benutzern die Überwachung, Steuerung und Verwaltung der Prozessparameter, um die Sputterprozesse anzupassen. Abschließend ist ULDIS-200UCP eine fortschrittliche und zuverlässige Sputterausrüstung mit ihren einzigartigen Eigenschaften, die einen stabilen und qualitativ hochwertigen Sputterprozess ermöglichen. Seine Mehrprozessunterstützungsstruktur ermöglicht präzises und kostengünstiges Sputtern und sein Energierückgewinnungsmechanismus ermöglicht effiziente Prozesse. Es verfügt auch über umfassende Sicherheitsfunktionen und anpassbare Sputterprozesse, die den Bedürfnissen jedes Benutzers entsprechen.