Gebraucht ULVAC Z-1101 #293610445 zu verkaufen

Hersteller
ULVAC
Modell
Z-1101
ID: 293610445
Wafergröße: 6"
Sputtering system, 6" TMP Turbo pump missing.
ULVAC Z-1101 ist eine hocheffiziente Sputteranlage für verschiedene Beschichtungsanwendungen. Dieses System verwendet einen hochfrequenten Hochleistungsimpulssputterprozess, der ein Hochleistungsmagnetfeld zur Erzeugung eines Hochleistungsplasmas verwendet. Z-1101 ist in der Lage, eine breite Palette von Sputtermaterialien wie Titan, Aluminium, Edelstahl und Kupfer abzuscheiden. ULVAC Z-1101 ist ein Singleraum, Mehrziel stottern Absetzungseinheit mit einer ungefähren Raumgröße von 16 Zoll × 16 Zoll × 16." Die Abscheidekammer umfasst eine beheizte Sekundärelektronenemissionskuppel (SEE), eine Abgasleitung und zwei aufladende Quarzkassetten, die für den Wafertransport verwendet werden können. Z-1101 Maschine ist mit einem Hochleistungsnetzteil mit hoher Dichte, einem HF-Sputtergenerator, einem APC-Werkzeug (Automatic Pressure Controlling) und einer Wasserkühlung ausgestattet. ULVAC Z-1101 verwendet ein Magnetron-Sputterverfahren mit hochdichtem Plasma und überlegener Sputterleistung. Das Stromversorgungsmodul ist mit einer Hochleistungsdichte von 0,5 kW/in3 und einem homogenen Magnetfeld von 3,5 Tesla ausgelegt. Die HF-Leistung wird zwischen 0 und 15kWatts eingestellt, um eine maximale Sputterleistung und eine hervorragende Abdeckung zu bieten. Der HF-Generator ist mit einer automatischen Frequenzabstimmung ausgestattet, so dass der Prozess mehrere Sputtermaterialien anvisieren kann. Die hohe Zuverlässigkeit und Präzision von Z-1101 machen es sehr begehrt für seine wiederholbaren und passivierenden Ergebnisse. Die digitale Anzeige gewährleistet jederzeit eine genaue Prozesssteuerung und Überwachung der Prozessparameter. Das Modell verfügt über einen leistungsstarken Embedded Controller mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle und einer Prozessdatenbank, die eine einfache Parameteränderung der Ausrüstung ermöglicht. Dieses Sputtersystem bietet auch eine gleichmäßige Belichtung der Materialien, was vorteilhaft sein kann, um die Größe der Maske und den Schatteneffekt zu reduzieren. Zusätzlich ermöglicht eine Multizieleinheit eine optimale Abdeckung mit großflächigem gleichmäßigem Sputtern im Vergleich zu einer Single-Target-Einheit. ULVAC Z-1101 bietet auch eine breite Palette von Prozessfähigkeiten, einschließlich Schicht-für-Schicht-Abscheidung, ionenunterstützte Abscheidung, reaktives Sputtern und Titanoxid-Abscheidung. Z-1101 ist eine ausgezeichnete Wahl für Branchen, die Präzisionsbeschichtungsanwendungen erfordern und in der Automobil-, Display-, Elektronik-, Flachbildschirm- und Magnetspeichermedienindustrie eingesetzt werden können. Diese Maschine ist in der Lage, hohe Abscheideraten zu erreichen, was einen schnellen Produktionsprozess und einen erhöhten Durchsatz ermöglicht.
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