Gebraucht UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9202971 zu verkaufen
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ID: 9202971
Weinlese: 1996
Sputtering system
Includes:
Computer control
CTI CRYOGENICS 9600 Compressor
Wafer loader system electrical cabinet and controls
LEYBOLD LEYVAC LV80C Vacuum pump
ADVANCED ENERGY MDX-10X Power supply
BALZERS MSU200 Power supply
HUTTINGER PFG 1600 RF Generator
DAYTON 500 lbs
Capacity overhead hoist with pendant / Rail system
Pumps:
HV Pump LC: Cryo CTI 8F onboard, VAT 2 Point
HV Pump MC: Cryo CTI 8F onboard, VAT Stepless
Fore pump LC / MC: Dryvac 50B
Meissnertrap MC cooled with LN2
Heater:
LC: QUARTZ Heater 2.0 kW
MC: QUARTZ Heater 4.0 kW
Sputtering:
Sources: Planner management AK 517 DC
Power supply: ADVANCED ENERGY Pinnacle, 12 kW
Etch:
Sources: Matchbox
Power supply: PFG 1.6 kW and HUTTINGER
(12) Tooling substrates, 6"
Handling: TECSEM With notch finder
Input: 3x400 VAC (3L+N+PE), 60 Hz, 53 A
1996 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS 502 ist eine Hochleistungs-RF/DC-Sputterausrüstung, die zum Abscheiden hochpräziser Dünnschichtschichten auf Substraten verwendet wird. Dieses System nutzt sowohl HF- als auch DC-Leistung, um Zielmaterialien in eine elektronenbeschussähnliche Atmosphäre zu sputtern, um eine effiziente Abscheidungsrate mit einer ausgewogenen Ionen-Cyclotron-Resonanz (ICR) -Technik zu erzeugen. UNAXIS LLS 502 verfügt über ein 600 kHz Hochfrequenznetzteil mit 150 W HF-Stromquelle und 150 kW DC-Stromquelle, die eine einfache und einstellbare Abscheidung von hochreinen Filmen ermöglicht. BALZERS LLS 502 verfügt über eine integrierte und präzise Steuereinheit, die eine breite Palette von variablen Parametern sowie eine breite Palette von Prozessmodi bietet, um die Abscheidung einer Vielzahl von dünnen Filmen zu ermöglichen. Seine fortschrittliche Software ermöglicht eine Echtzeit-Prozessüberwachung und -steuerung, während sein mechanisches Design einen jahrzehntelangen wiederholbaren Betrieb ohne erforderliche Wartung ermöglicht. LLS 502 verfügt über ein fortschrittliches Kammerdesign, das eine präzise Steuerung der Arbeitstemperaturen bis 600 ° C sowie ein breites Prozessfenster für verbesserte Abscheideraten von Metallen und Dielektrika ermöglicht. So können Forscher verschiedene Prozessparameter für eine optimale Dünnschichtabscheidung nutzen. Es verfügt auch über eine Gasmischmaschine, die vollautomatisch ist und eine gleichzeitige und kumulative Steuerung einzelner Gase ermöglicht. Darüber hinaus bietet UNAXIS/BALZERS LLS 502 eine Reihe von optischen Komponenten, die dem Anwender Steuerungs-/Überwachungsfunktionen bieten, die ein Echtzeit-Reflektometer, ein automatisiertes optisches Mikroskop, ein automatisiertes Ellipsometer und Photometriefunktionen umfassen. Insgesamt ist UNAXIS LLS 502 ein zuverlässiges und präzises Sputterwerkzeug zur Abscheidung hochwertiger Dünnschichtschichten mit hoher Kontrolle des Abscheideprozesses. Sein ausgeklügeltes Design sorgt für einen wiederholbaren und präzisen Abscheideprozess und bietet außergewöhnliche Prozessleistung und überlegene Anwenderflexibilität.
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