Gebraucht UNAXIS / BALZERS LLS EVO #9275953 zu verkaufen

ID: 9275953
Weinlese: 2001
Sputtering system Standard layout RF Sputter (14 CM) Includes: TRIVAC D66B Rough pump CTI 8F Cryo HV pump POLYCOLD PFC400LT Vent valves: VAP026-A HV Valves: VAT 014 2-Point VAT 064 Servo Heater: LC Degas MC Degas Signal tower UPS Power supply Substrates: Manual handling Front side load pins (12) Substrate sizes Gases: Ar / 200 scc O2 / 100 scc Ar / 60 scc N2 / 100 scc Damaged parts: Pinnacle power 12 kW RF Power 1.6 kW Cryo pump 8F Handling system removed Power supply: 3 x 400 VAC, 50/60 Hz, 3 LNPE, 49kVA 2001 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS EVO ist eine Sputteranlage zur Dünnschichtbeschichtung, die speziell für die Abscheidung von Ti- oder TiN-Folien entwickelt wurde. Das Sputtersystem besteht aus einer dreiachsigen Bewegungssteuerung und zwei Sputterquellmodulen. Die Sputtereinheit führt die X-Achsen- und Y-Achsbewegungen von bis zu 200 mm mit einer hohen Genauigkeit von ± 0,1 μ m aus. Die Bewegung der dritten Achse (Z-Achse) erfolgt mittels einer Aufzugsmaschine. Alle Koordinaten werden von einem zentralen Controller verwaltet, der auch den Prozessablauf unterstützt. Das Sputterwerkzeug verfügt über zwei Sätze von Sputterquellen mit sechs unabhängigen Prozesskammern. Jedes Sputterquellenmodul ist mit zwei aktuellen Magnetron-Sputterquellen, hochpräzisen Prozessnetzteilen und einer Steuereinheit ausgestattet, die den Sputterprozess verwaltet. Je nach Art des Dünnschichtmaterials werden der Sputterkammer Leistungswerte von bis zu 1kV Peak zugeführt. Die Sputteranlage ist in der Lage, jedes Material mit variablen Dotierungsprozessparametern zu verarbeiten, um optimale Dünnschichtergebnisse zu erzielen. UNAXIS LLS EVO überwacht aktiv die Prozessparameter in der Sputterkammer während der Verarbeitung. Unterschiedliche Prozessparameter wie Sputterzeit, Sputterleistung oder Gasfluss können für das gesamte Modell oder einzelne Sputterquellen programmiert werden. Der Sputterprozess kann mit der integrierten Datenerfassungseinrichtung in Echtzeit überwacht werden. Dadurch wird sichergestellt, dass der hochwertige Dünnschichtabscheidungsprozess während des gesamten Herstellungsprozesses beibehalten wird. Das integrierte Gassystem versorgt die Sputterquellen effizient mit reaktiven Gasen. Die Strömung und der Druck der Gase werden exakt geregelt, um den gewünschten Abscheidungsprozess zu erzeugen. Die Gaseinheit ist mit manueller und automatischer Durchflussregelung sowie vorprogrammierter Lecksuche und Alarmen ausgestattet, um einen stabilen und zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten. BALZERS LLS EVO Sputtermaschine ist ein hochentwickeltes Sputterwerkzeug, das die präzise Abscheidung von dünnen Filmen durchführen kann. Die integrierte Datenerfassung, hochpräzise Prozessnetzteile und speziell entwickelte Bewegungssteuerung ermöglichen es, die besten Ergebnisse bei der Abscheidung von beliebigem Material zu erzielen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor