Gebraucht UNAXIS Clusterline 200 #9189483 zu verkaufen

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ID: 9189483
Weinlese: 2000
Sputtering system Turbo pumps: TMH 521P (2) TMH 520 TMH 260 Brooks robot and arm-set PN: 201600-01R Brooks load lock-drive/controller PN: 003-9010-03 Turbo pumps and controllers: (3) TCP 380, DCU300 ARQ and magnet-system (Al-chamber) PN: ARQ 151 D31, MB300DR magnets Load-lock with cass system, 6" Transfer camber turbo pump Sputter etch chamber with turbo pump Sputter chamber Heated lamp Rotation magnets with turbo pump Magnetron has rotation magnets Sputtering of ALU and ALU nitride Dual arm robot Robot included Spare parts: O-Ring Metal rings Ceramic chamber Transport brackets 2000 vintage.
UNAXIS Clusterline 200 ist eine Sputteranlage, die Präzisionsfilmabscheidungstechnologie für eine Vielzahl von Substraten bietet, einschließlich Glas, Keramik, Kunststoff und Metall Substrate. Dieses vielseitige System ist auf Flexibilität und Produktion bei mittleren bis großen Aufträgen ausgelegt. Es bietet eine automatisierte Prozesssteuerung, die eine gleichmäßige und qualitativ hochwertige Dünnschichtabscheidung auf Substraten erzeugt. Clusterline 200 verwendet ein hochwertiges Herstellungsverfahren, das mit der Herstellung des Substrats beginnt. Das Substrat wird dann in einer Vakuumkammer durch die Anlage transportiert, wo eine UNAXIS-Magnetronquelle hochfokussierte Energiestrahlen erzeugt. Da diese Strahlen das Substrat bombardieren, bewirken sie, dass Partikel aus der Quelle gesputtert werden und einen dünnen Film auf dem Zielsubstrat bilden. Um bestmögliche Ergebnisse zu erzielen, wird der Prozess durch die automatisierte Prozesssteuerung kontinuierlich überwacht. UNAXIS Clusterline 200 bietet zudem eine integrierte Prozessüberwachungsplattform, die einen zuverlässigen, effizienten und kontrollierten Arbeitsprozess gewährleistet. Die integrierte Prozessüberwachungsplattform ermöglicht es Benutzern, Maschinenparameter zu überwachen, auftretende Probleme zu diagnostizieren und den Prozess auf optimale Leistung einzustellen. Darüber hinaus bietet Clusterline 200 mit seiner fortschrittlichen Sputtertechnologie eine hervorragende Leistung. Seine fortschrittliche Sputtertechnologie verwendet eine innovative Druckimpulstechnologie, um die Menge der erzeugten ionisierten Atome zu begrenzen. Dies hilft, die Oberflächenrauhigkeit und das Kristallwachstum zu reduzieren und ermöglicht gleichzeitig eine dünne Schichtabscheidung auf kleinen und komplexen Teilen. Schließlich kann die UNAXIS Clusterline 200 verschiedene Substrattemperaturen und -drücke aufnehmen, um die Prozesseffizienz zu maximieren. Dies trägt dazu bei, die Folienbelastung von Substraten zu minimieren und die Restspannung zu minimieren. Abschließend ist Clusterline 200 ein leistungsstarkes, leistungsstarkes Sputter-Abscheidewerkzeug, das Vielseitigkeit, Präzision und robuste Prozesskontrolle bietet. Seine fortschrittliche Prozesssteuerung und modernste Technologie machen es ideal für die Abscheidung auf einer Vielzahl von Substraten.
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