Gebraucht VARIAN 3180 #293827838 zu verkaufen

VARIAN 3180 Sputteranlage, hergestellt von VARIAN, ist ein vielseitiges All-in-One-System, das eine gleichmäßige dünne Beschichtung auf flachen Substraten aufbringt. Es ist ideal für Forschung und Entwicklung in vielen verschiedenen Branchen, wie Mikroelektronik, Energiespeicher und Displays, da es eine breite Palette von Materialien beschichtet werden können, einschließlich Metalle, Legierungen, Oxide und Dielektrika. Die Einheit besteht aus einer Basiseinheit und einer Reihe weiterer Komponenten, darunter eine Ionenquelle, eine Impulsstromversorgung, eine Gaszuführungsmaschine und eine Sputterkammer. Die Ionenquelle verwendet eine RF- oder DC-Glimmentladung, um einen positiven oder negativen Ionenstrahl zu erzeugen, der die zerstäubten Atom-Spezies in eine bestimmte Richtung orientiert. Das Impulsnetzteil dient zur Steuerung der Pulsrate und Pulsbreite, was zur Optimierung der Filmwachstumsrate beiträgt. Mit dem Gaszuführwerkzeug werden reaktive Gase wie Argon-, O2-, Ar-O2 oder N2-Gemische eingespritzt, die dann durch den Ionenstrahl ionisiert werden und einen zusätzlichen Ionenbeschuss des Substrats bewirken. Dies verbessert die mechanische und chemische Haftung des zerstäubten Materials und reduziert die Verschmutzung durch Partikel auf dem Substrat. Die Sputterkammer ist in der Lage, hohe Vakuumverhältnisse zu erzielen, die zur Herstellung einer stabilen und gleichmäßigen Abscheidung des Beschichtungsmaterials auf dem Substrat erforderlich sind. Der Substrathalter ist für den Probenaustausch motorisiert und kann leicht wieder positioniert werden. Die Anlage bietet auch eine breite Palette von Steuerparametern in Bezug auf Temperatur, Richtung und Muster des Strahls, Rate der Sputter-Abscheidung und HF-Leistung. Es ist auch möglich, den Kammerdruck und die Gasströme zu überwachen und zu steuern. Um eine gleichmäßige Folie des gewünschten Materials auf dem Substrat zu erhalten, bietet das Sputtermodell 3180 eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit. Es ist mit einer automatisierten Sputterpistole ausgestattet und bietet überlegene Foliendickengleichmäßigkeit und Laufwiederholbarkeit. Die Gleichmäßigkeit der Schichtdicke über das Substrat liegt innerhalb von +/-0,2 μ m und die typische Gleichmäßigkeit über die Probe liegt innerhalb von +/-0,5 μ m. Dadurch wird sichergestellt, dass das Substrat optimal mit dem gewünschten Material beschichtet ist. Die Sputteranlage VARIAN 3180 ist ein zuverlässiges, einfach zu bedienendes und effizientes System zur Dünnschichtabscheidung. Es ermöglicht Anwendern, gleichmäßige Beschichtungen auf Substrate mit hoher Ausbeute und gleichbleibender Qualität aufzubringen. Es ist eines der zuverlässigsten und flexiblesten Sputtersysteme auf dem Markt und somit ideal für eine Reihe von Forschungs- und Entwicklungsanwendungen.