Gebraucht VARIAN 3180 #69386 zu verkaufen

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VARIAN 3180
Verkauft
Hersteller
VARIAN
Modell
3180
ID: 69386
Wafergröße: 4"
Sputtering systems, 4" Throughput: 60 wafer/hr for 1 micron aluminum alloy deposition, independent of water size Film thickness uniformity, 100mm: +/-5% across wafer for aluminum alloys excluding out 0.0625" of water Film thickness uniformity, 125mm: +/-6.5% across wafer for aluminum alloys excluding out 0.0625" of water Vacuum system: Deposition chamber: Varian Cryostock-12FA closed-loops helium pump, 12" Load lock: 14cfm Deposition source: Type: close-coupled dc conical Magnetron Orientation: vertically mounted for sideways sputtering Deposition rate: ~12,000A/min Cathode: 7" dia., annular Cathode life: 2000 one-micron Deposition DC power supply: 12kW Operating Crated.
VARIAN 3180 ist eine leistungsstarke Sputteranlage, die eine optimale Beschichtungsleistung für eine Vielzahl von Anwendungen bietet. Das System besteht aus einer DC-Magnetronsputtereinheit, die hohe Abscheideraten bis 180nm/min sowie eine hervorragende Abdeckung erreichen kann. Sputterbeschichtung ist ein Verfahren, das Hochleistungs-Gleichstrom (DC) -Magnete, eine Abscheidekammer und eine Vakuummaschine umfasst. Das Magnetron-Sputter-Werkzeug bietet ultimative Kontrolle über die Eigenschaften der Ablagerung wie Dicke und Oberflächenqualität. 3180 wird von der PLCDAQ-Software gesteuert, die in der Lage ist, alle Prozesse im Asset zu steuern. Die Software ermöglicht es dem Benutzer auch, die Quellmaterialien, die Kammergeometrie, den Prozesszyklus und alle anderen Parameter des Sputter-Beschichtungsprozesses auszuwählen. Darüber hinaus kann die Software alle im Modell verwendeten Rezepte speichern, um eine schnellere Startzeit zu ermöglichen und die Benutzerfreundlichkeit zu erhöhen. VARIAN 3180 besteht aus mehreren Komponenten, die für eine effektive Sputterbeschichtung wichtig sind. Zum Beispiel ist die Kammer der Ausrüstung mit einem langlebigen Liner ausgestattet, der einen überlegenen Schutz vor Kontamination, Verschleiß und körperlichen Schäden bietet. Darüber hinaus bietet die Kammer eine überlegene Gasdichtigkeit und kann sowohl atmosphärische als auch Hochvakuumprozesse aufnehmen. Die Kammer bietet ein außergewöhnliches Maß an Gleichmäßigkeit und ermöglicht die gleichmäßige Beschichtung eines Substrats ohne Schatteneffekte. Die HF-gesteuerten Ionenstrahlquellen sorgen für eine gleichmäßige und höhere Aufheizung des Substrats als die thermische Verdampfung. Die Hochspannungs-angetriebene HF-angetriebene Ionenquelle ist noch mehr in der Lage, die Abscheiderate zu erhöhen. Die Sputterquelle kann auch eingestellt werden, um einen verbesserten Ionenbeschuss des Zielmaterials zu gewährleisten, was zu einer verbesserten Leistung und höheren Qualität der Sputterbeschichtungen führt. 3180 bietet eine breite Palette von Vorteilen, die es zu einem überlegenen Sputtersystem macht. Es bietet ausgezeichnete Beschichtungsleistung mit überlegener Abdeckung, einem zuverlässigen und stabilen Betrieb und überlegener Geschwindigkeit und Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus ist die Einheit sehr anpassbar und in der Lage, eine Vielzahl von Kammergeometrien und Quellmaterialien unterzubringen. Damit eignet sich VARIAN 3180 ideal für eine Reihe von industriellen und wissenschaftlichen Anwendungen und bietet die notwendige Zuverlässigkeit, Geschwindigkeit und Genauigkeit für eine überlegene Beschichtungsleistung.
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