Gebraucht VARIAN 3280 #154113 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 154113
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1985
Sputtering system, 6"
Sources: (1) Mini Quantum, (1) CMI, (1) CMII
Specifications:
Dedicated 6" wafer handling capability
Throughput: 45 wafer/hour for 1-micron aluminum alloy depositions
Film thickness uniformity:
± 5% across 6" wafer for aluminum alloys, excluding outer 0.0625" of wafer
± 5% wafer to wafer and cassette to cassette for aluminum alloys, when measured at the wafer center
Vacuum system:
Process chamber:
VARIAN Cryostack-12FA closed-loop helium cryopump
12" diameter pumping stack with integral fixed aperture
Load lock:
Pumped initially with 27 cfm direct drive mechanical pump to a pre-selected pressure
When pressure set-point is reached, crossover to the cryopump occurs for continued load lock pumping
Process chamber base pressure: 5 x 10^-7 Torr
Deposition source:
Type: DC dual cathode conical magnetron with independently powered cathodes
Orientation: horizontally mounted sideways sputtering
Typical deposition rates:
Aluminum alloys: 10,500 Angstroms/min
Refractory metal silicides: 3,600 Angstroms/min
Cathodes:
Outer: 9.7" diameter
Inner: 5.4" diameter
Cathode life: 3000 1-micron aluminum alloy depositions/cathode set
Deposition power supply:
(2) Power supplies provided for each sputter deposition source
Operating range:
12kW maximum for outer cathode
3kW maximum for inner cathode
Cathode power ratios: 4 ratios can be selected to optimize uniformity throughout cathode life
Maximum cathode output current: 23A
Open circuit voltage: 1400V
Substrate heaters:
Type: gas conduction, resistive heater element
Maximum temperature: 400°C
Temperature control: Chromel-alumel thermocouple closed-loop feedback to EUROTHERM temperature controller
Facilities requirements:
Electrical power:
Main system:
200/208V, 35A, 50/60Hz, 3-phase
380V, 20A, 50/60Hz, 3-phase
480V, 16A, 50/60Hz, 3-phase
Power supplies:
380V, 140A, 50/60Hz, 3-phase
480V, 112A, 50/60Hz, 3-phase
Air: 80 to 120 psi at 10 cfm
Water: 8 gpm at ≤ 20°C
Dry nitrogen: 5 L/min at 20 psi
Argon: 2 Torr-liters/sec
1985 vintage.
VARIAN 3280 ist eine Sputteranlage, die dünne Filme aus verschiedenen Materialien wie Metallen, Halbleitern und Dielektrika herstellen kann. Das System verwendet reaktives und nicht-reaktives Sputtern, um Substrate in einer Reihe von Dünnschichtkonfigurationen zu beschichten, und es ist in der Lage, präzise und konsistente Ergebnisse zu liefern. Die Sputtereinheit arbeitet im Vakuum und kann dünne, gleichmäßige Folien auf großflächigen Substraten erzeugen. Die Maschine verfügt über eine benutzerfreundliche Steuerung, die eine vollständige Parameterkontrolle ermöglicht und es Benutzern ermöglicht, Sputterfunktionen für benutzerdefinierte Dünnschichtabscheidungsprozesse anzupassen. Das Werkzeug bietet präzise Leistungseinstellungen und eine stark wiederholbare Foliendicke, um eine maximale Kontrolle zu ermöglichen. 3280 verwendet einen Magnetron-Sputterprozess, der hohe Appositionsraten, überlegene Dünnschichtqualitäten und die Möglichkeit ermöglicht, Filmabscheidungsraum-Umgebungen kostengünstig zu steuern. Die Anlage umfasst eine Magnetron-Stromversorgung und eine Steuerschaltung, die die Steuerung der Sputterrate ermöglicht. Durch die Verwendung eines Auto-Sputterprozesses können Benutzer in verschiedenen Parametern von Druck, Abscheidungsrate, Gasgemischen und Substratpositionen programmieren. Das Modell bietet ein unvergleichliches Maß an Genauigkeit und Wiederholbarkeit, und seine Gleichmäßigkeit der Beschichtung sorgt für höchste Dünnschicht-Produktqualität. Darüber hinaus ist die Ausrüstung einfach zu aktualisieren, so dass Benutzer überlegene Sputterleistung mit minimalen Kosten erhalten. VARIAN 3280 ist das ultimative Sputtersystem für die Dünnschichtabscheidung und eignet sich ideal für Anwendungen, die eine präzise Dünnschichtabscheidung erfordern. Das Gerät ist kompakt, zuverlässig und erschwinglich, so dass Benutzer die benötigten Sputterergebnisse effizient und kostengünstig erzielen können.
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