Gebraucht VARIAN 3290 #9154647 zu verkaufen

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Hersteller
VARIAN
Modell
3290
ID: 9154647
Wafergröße: 6"
Sputtering system, 6" Entity target configuration: Process station #1: HARD ETCH Process station #2: ALSI Process station #3: ALSI Process station #4: ALSI Process station cathode configuration: Station #1: Etch Station #2: Con-Mag 2 Station #3: Con-Mag 2 Station #4: Con-Mag 2 Heater configuration: Heater type (All Station): DC BIAS Heater controller(AII Station): (3) Eurotherm 808, (1) Eurotherm 3508 Power supply configuration: RF Gen. station #1: RF-10S (1KW max) Inner PSU station #2: 2.5 KW Outer PSU station #2: AE PINNACLE 12 KW Inner PSU station #3: 2.5 KW Outer PSU station #3: AE PINNACLE 12 KW Inner PSU station #4: 2.5 KW Outer PSU station #4: AE PINNACLE 12 KW System vacuum configuration: Compressor: Model 8150 8R Cryo pump: Yes Water pump: No Software configuration: User's guide: ECS 3000 Version: 96.204.10U1 Floppy drive: 3.5" Double cassette loading: Yes.
VARIAN 3290 ist eine präzise Hochleistungs-DC-Sputterausrüstung, hergestellt von VARIAN, einem großen Anbieter von wissenschaftlichen und Laborgeräten. Das System wurde entwickelt, um Schichten aus dünnen Materialien auf Substraten wie Scheiben, Wafer und Rohre zu erzeugen. Es ermöglicht die präzise Abscheidung von dünnen Folien für eine Vielzahl von Anwendungen, von Halbleiterbauelementen bis hin zu dekorativen Produkten. Das Gerät enthält eine Vielzahl von Zubehör zum Sputtern verschiedener Materialien, darunter Edelstahl, Aluminium, andere Metalle, Keramik- und Oxidfolien. 3290 verfügt über Gleichstrom (DC) -Sputtertechnologie, eine nanoskalige Abscheidungstechnik. Die Technik nutzt eine kontrollierte Niederdruckumgebung innerhalb einer Vakuumkammer, die es ermöglicht, ein Sputtertarget mit Elektronen zu beschießen, um einen dünnen Film auf dem Substrat zu erzeugen. Diese Beschießung führt zum Ausstoß von Dünnschichtatomen aus dem Zielmaterial, die sich dann auf dem Substrat ablagern. Diese Technologie ist hochpräzise und ermöglicht die Abscheidung einheitlicher Schichten verschiedener Substanzen auf dem Substratmaterial. VARIAN 3290 hat eine maximale Leistungsabgabe von 5.4kW und drei unabhängigen Kathoden. Dies ermöglicht die schnelle Abscheidung mehrschichtiger Stapelstrukturen, ein wertvolles Merkmal für komplexe mehrschichtige Anwendungen. Zur Einstellung des Sputterprozesses kann der Spannungsbereich von 0v bis 5kV eingestellt werden. Die Maschine verfügt auch über aktive Kühlsysteme, die es dem Benutzer ermöglichen, die Stromzufuhr auch bei der Hochleistungsabgabe anzupassen, was eine Überhitzung bei längerer Nutzung verhindert. Zusätzlich verfügt das Werkzeug über eine automatische Druckmesseinrichtung, die den Kammerdruck ständig überwacht und einstellt. 3290 ist ein fortschrittliches Modell, das eine Reihe von Merkmalen bietet, die nicht auf anderen Systemen zu finden sind, und die genaue Abscheidung von dünnen Schichten und einheitlichen Schichtstrukturen ermöglicht. Kombiniert mit seiner robusten Konstruktion und den langlebigen Komponenten bietet VARIAN 3290 eine hervorragende Lösung für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsprojekten.
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