Gebraucht VARIAN 3290 #9236362 zu verkaufen

VARIAN 3290 ist eine industrielle Sputteranlage, die zum Abscheiden von dünnen Schichten auf verschiedenen Substraten verwendet wird. Dieses System kann eine Reihe von Dünnschichtmaterialien abscheiden, einschließlich Metalle, Oxide, Halbleiter und Isolatoren. Es ist mit einem geschlossenen, großen Sputtertarget in verschiedenen Größen und Formen ausgestattet, das typischerweise aus dem zu deponierenden Material besteht. Es verfügt über eine Magnetron-Sputterkathode, die entweder mit einer Ein- oder Mehrfachzielsputterfähigkeit und einer planetaren Bewegungsfähigkeit zum Spinnen und Indexieren der Zielsputtertechnik ausgestattet ist. Die Sputterkathode besteht aus einer Vakuumkammer, einem Targetsubstrat und einer Magnetronquelle zur Ionisierung des Gases. Die Vakuumkammer ermöglicht die Einleitung des Gases in die Kammer und das Targetsubstrat wirkt als Oberseite für den Sputtervorgang. Die Magnetronquelle erzeugt innerhalb der Kammer ein Hochvakuum, das sicherstellt, dass die Gasmoleküle und negativen Ionen ungehindert durch die Kammer laufen können. Diese Sputtereinheit verwendet außerdem eine Ultrahochvakuummaschine für optimale Leistung und zur Vermeidung von Verschmutzungen. Das Werkzeug weist einen dreiachsigen Manipulator zur Positionierung des Substrathalters zum Sputtern auf, der für eine gleichmäßige Abdeckung, hohe Geschwindigkeit, kreisförmige oder versetzte kreisförmige Bewegung ausgelegt werden kann. Es hat auch ein programmierbares Vorne-Hinten-Verhältnis zur Steuerung der Sputtererosion und der Funktionssteuerung. Die variable programmierbare Tabelle bietet bis zu drei vordefinierte Steuerbereiche, so dass Benutzer das Material des Substrats und das Sputter-Abscheidungsmuster anpassen können. Auch eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle ist für zusätzliche Vielseitigkeit in das Asset integriert, was Präzision ermöglicht. Um die Gleichmäßigkeit zu gewährleisten, verwendet 3290 einen dreidimensionalen Partikelgrößenmonitor, der die Partikelform und Partikelgröße kontrolliert. Darüber hinaus verwendet das Modell Quarzkristall-Dicke-Monitore für genaue Abscheidungssteuerung und optische Emissionsspektroskopie und Massenspektrometrie für die laufende Prozesskontrolle. Insgesamt ist VARIAN 3290 eine fortschrittliche Ausrüstung mit Hochleistungsfähigkeit zum präzisen Sputtern von dünnen Schichten auf einer Vielzahl von Substraten. Dies bietet Kunden eine effiziente und effektive Lösung für die Substratabscheidung, die maximale Genauigkeit und Kontrolle ermöglicht.