Gebraucht VARIAN 3290 #9236371 zu verkaufen

VARIAN 3290 ist eine Edelgassputteranlage zur Abscheidung von dünnen Folien, die in den anspruchsvollsten Dünnschichtabscheidungsanwendungen verwendet werden. Es besteht typischerweise aus einer Gleichstrom- oder gepulsten Magnetronsputterquelle, einer einzigartigen Substrat tragenden Plattform, die eine wiederholbare Verbindung zwischen Substrat und Quelle ermöglicht, und einem effizienten Vakuumpumpsystem mit Instrumentierung und Verriegelungen. Die Einheit besteht typischerweise aus einer großen zylindrischen Kammer, die mit einem oben angebrachten Sputtertarget versehen ist, das um eine substrattragende Plattform angeordnet ist. Diese Plattform kann sich auf und ab bewegen, um den Zielsubstratabstand in stark wiederholbarer Weise genau anzupassen und ermöglicht je nach Anwendung eine Abscheidung von bis zu 3 Substraten auf einmal. Die Kammer ist für den Betrieb bei Ultrahochvakuum (UHV) -Drücken von 2 x 10 ^ -9 Torr oder besser ausgelegt. Zur Erzeugung der UHV-Bedingungen wird eine Turbomolekularpumpe (TMP) verwendet. Die Sputterquelle ist entweder ein DC oder gepulstes Magnetron, das eine hervorragende Kontrolle der Abscheiderate und Zusammensetzung (z.B. Ti/Al-Oxidfilme) ermöglicht. Das Gleichstrom- oder gepulste Target ist mit Abschirmungen ausgestattet, die die Ätzratengleichförmigkeit verbessern und auch in einigen Systemen zur Gleichmäßigkeit verkippt werden können. Spezielle Kathodenmontage wird auch verwendet, um das Ziel vor dem Kurzschluss an die Kammerwände zu bewahren und einen zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten. Schließlich ist 3290 mit Prozessüberwachungs- und Steuerinstrumenten zur Drehung und Neigung des Substrats, Strom und Spannung zum Ziel, Massenspektrometer zur Überwachung des Kammerdrucks, automatisierter Substratausrichtung und anpassbaren Wärmeheizern ausgestattet, um eine Temperaturregelung des Substrats zu ermöglichen. Zusammenfassend ist VARIAN 3290 eine leistungsstarke Sputtermaschine zur Abscheidung hochwertiger, reproduzierbarer Dünnschichten. Es wird in vielen anspruchsvollen Dünnschichtabscheidungsanwendungen wie optischen Beschichtungen, Halbleiter- und MEMS-Geräteherstellung und OLED-Display-Herstellung begünstigt.