Gebraucht VARIAN Chamber for M 2000 #293661352 zu verkaufen

VARIAN Chamber für M 2000 ist eine Sputteranlage für Dünnschichtabscheidungsanwendungen. Es ist ein R & D-Abscheidungssystem, das in der Lage ist, große Bereiche mit hoher Konsistenz und Gleichmäßigkeit abzuscheiden. Das Gerät ist ideal für die Abscheidung einer Vielzahl von Materialien wie Metalle, Dielektrika und organische. Die Kammer für M 2000 verfügt über zwei 6-Zoll x 6-Zoll-Wafer-Karussells und zwei 8-Zoll x 8-Zoll-Wafer-Karussells, die über eine intuitive Benutzeroberfläche gesteuert werden. Die Maschine verwendet ein herkömmliches Kathodenwerkzeug und einen abgeschirmten Kathodenmechanismus, um eine optimale Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Die Waferkarussells sind so konzipiert, dass eine genaue Ausrichtung und Parallelität der Wafer während der Sputteroperationen gewährleistet ist. Darüber hinaus verfügt das Asset auch über einen flexiblen Wafer-Vakuumquellenanschluss, mit dem Gasquellen während des Sputtervorgangs eingeführt werden können. VARIAN Kammer für M 2000 enthält auch eine einzigartige SubSystem 2000 Schaltschrank entworfen, um die Leistung und Dienstprogramm des Modells zu maximieren. Das Gerät enthält ein Softwarepaket, das den Fernzugriff und die Steuerung des Systems von einem externen PC aus ermöglicht. Diese Software bietet auch erweiterte Diagnose und Einheit Dienstprogramme. Die Kammer für M 2000 verwendet einen präzisen drehbaren mechanischen Verschluss, um eine gleichmäßige Abscheiderate über die Waferoberfläche bereitzustellen, ohne dass zusätzliche Schutzmasken erforderlich sind. Die Maschine hat auch volle Stickstoffspülung Fähigkeit für schnelle und effiziente Reinigungsprozesse. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über eine Trockenätzoption sowie eine hochauflösende Nahterkennung für effiziente Qualitätskontrollprozesse. VARIAN Chamber für M 2000 beinhaltet auch ein Hochleistungs-HF-Netzteil mit präzisen Steuerungs- und Überwachungsfunktionen. Es bietet auch eine breite Palette von Sputter Ionen Quellen für die Präsentation einer Vielzahl von Filmen. Schließlich enthält es auch eine Vielzahl weiterer Merkmale wie doppelseitige Abscheidung, einen einstellbaren Druckdetektor und ein Acrylschutzfenster für erhöhte Sicherheit und effiziente Operationen. Abschließend ist Chamber for M 2000 ein fortschrittliches Sputtervermögen für F & E-Grade, das darauf ausgelegt ist, dünne Filme mit hoher Treue und Wiederholbarkeit effizient abzulegen. Das Modell bietet auch eine Vielzahl von zusätzlichen Funktionen wie ein SubSystem 2000 Schaltschrank, eine präzise drehbare mechanische Blende und eine Hochleistungs-HF-Stromversorgung, um eine optimale Leistung zu gewährleisten.