Gebraucht VARIAN / INTEVAC MDP-1100 #293596074 zu verkaufen

VARIAN/INTEVAC MDP-1100 Sputterausrüstung ist weit verbreitet für Dünnschichtabscheidung in einer Vielzahl von Anwendungen wie Display, Halbleiter und optoelektronische Bauelemente verwendet. Dieses System ist ein vielseitiges Werkzeug, das eine Vielzahl von Materialien wie Metalle, anorganische Isolatoren und Oxide unter Verwendung einer breiten Palette von Abscheidungsparametern abscheiden kann. Die Einheit besteht aus mehreren Teilen, wobei die Hauptkomponenten die HF-Stromversorgung, die Kammer, die Sputterkathode, die Vakuummaschine und die Stromquelle sind. Das HF-Netzteil dient zur Erzeugung und Aufrechterhaltung eines niederfrequenten Plasmas in der Kammer. Dieses niederfrequente Plasma dient dann dazu, Zielmaterial effizient von der Sputterkathode und auf das Substrat zu sputtern, um den gewünschten Dünnfilm zu bilden. Das Plasma wird durch die Steuerung negativer und positiver Gleichspannungen erzeugt, die die zum Abbrechen des zerstäubten Materials benötigte Energie modulieren. Die Kammer besteht aus einem Sockel, einem Glockenglas und einem Satz Ventile. Die Basis ermöglicht den Betrieb des Werkzeugs unter Beibehaltung der kontrollierten Umgebung innerhalb der Kammer. Das Glockenglas besteht in der Regel aus Aluminium niedriger Leitfähigkeit und ist in der Lage, die zu zerstäubenden Materialien ohne Störungen aus der Umgebung zu halten. Darüber hinaus können die Ventile verwendet werden, um eine Vielzahl von Materialien zum Sputtern und Filmen einzuführen, zu extrahieren oder zu recyceln. Die Sputterkathode besteht aus einer relativen Form zum als Zielhalter wirkenden Zielmaterial, die entweder auf einem Sockel oder in einem drehbaren Sputtergut montiert ist. Sie besteht aus dem Targetmaterial und einer Tragstruktur für das Magnetron. Das Magnetron hilft dabei, das für den Sputterprozess notwendige Plasma zu erzeugen. Das Vakuum-Modell wird verwendet, um den richtigen Druck in der Kammer aufrechtzuerhalten. Es besteht aus mehreren Komponenten, wie der Schrupppumpe, den Turbopumpen, der Kryopumpe und der mechanischen Pumpe, die verwendet werden, um den Vakuumdruck aufrechtzuerhalten, der durch den Sputterprozess benötigt wird. Die Stromquelle versorgt die HF-Stromversorgung und die anderen Komponenten des Geräts mit elektrischer Energie. Je nach Anforderung des Sputterprozesses kann Gleich- oder Wechselspannung zugeführt werden. Zusammenfassend ist VARIAN MDP-1100 ein leistungsfähiges und vielseitiges Sputtersystem, das eine breite Palette von dünnen Filmen ablegen kann. Die Komponenten des Geräts arbeiten zusammen, um das beste Sputterergebnis zu gewährleisten, was es zu einem der beliebtesten Systeme für Abscheidungsanwendungen macht.