Gebraucht VARIAN M 2000 #9246300 zu verkaufen

VARIAN M 2000 ist eine hochmoderne Technologieausrüstung, die in einer Vielzahl von Forschungs- und Industrieanwendungen eingesetzt wird. Es ist ein leistungsstarkes Sputtersystem, das für maximale Effizienz mit einem einstellbaren Zielbereich zur präzisen Abscheidung von Filmen oder Elektroden ausgelegt ist. Diese Zerstäubungseinheit arbeitet unter Verwendung eines geeigneten Gases, meist Argon, das durch Zugabe einer Hochspannungsvorspannung ionisiert wird. Ein Magnetron projiziert dann einen schnellen, fokussierten Strom von ionischen Partikeln, die das Zielgebiet bombardieren, um die Oberfläche zu passivieren oder zu beschichten. Das Substrat ist auf einem rotierenden Spannfutter montiert und besteht aus einer großen Kammer zur fertigungstechnischen Beschichtung mit einer Zielhalterfläche, die speziell für den Einsatz in Plasmaprozessanwendungen ausgelegt ist. Zu den Hauptkomponenten der Maschine gehören eine Induktionsspule, ein Transformator, eine Ionenquelle, ein HF-Generator, ein Abgaswerkzeug und ein Ionenstrommonitor. Alle diese Teile sind zur vollständigen Steuerung des Substratbeschichtungsprozesses in die Maschine integriert. Die Hauptvorteile von VARIAN M2 000 im Vergleich zu anderen Systemen umfassen seine einstellbaren Energiequellen, die eine bessere Anpassung der Abscheidungsparameter ermöglichen; zuverlässiger Betrieb mit geringem Ausfallrisiko und erhöhtem Produktionsdurchsatz; und eine Vielzahl von Kammergrößen, die eine Vielzahl von Substraten aufnehmen. Das Gesamtdesign von M 2000 ist einfach und robust bei hoher Prozessqualität und robustem Betrieb. Diese Ressource hat eine Vielzahl von potenziellen Anwendungen, die aus der Medizin-, Automobil-, Industrie- und Halbleiterindustrie reichen. Seine verschiedenen Anwendungen umfassen die Bereitstellung physikalischer und elektrischer Eigenschaften für Oberflächen, Dünnschichtabscheidung und fortschrittliche Display-Herstellung. Abschließend ist das Sputtermodell M2 000 eine fortschrittliche und effiziente Lösung, die für viele Anwendungen entwickelt wurde und in der Lage ist, eine zuverlässige und gleichmäßige Beschichtung bei hoher Prozessqualität bereitzustellen. Es hat den Vorteil, dass es über einstellbare Energiequellen und eine Vielzahl von Kammergrößen verfügt, die es für die meisten Substrate geeignet machen, und ein robuster Betrieb ist hilfreich, um den Produktionsdurchsatz zu maximieren.