Gebraucht VARIAN M 2000 #9277462 zu verkaufen

VARIAN M 2000 ist eine Sputteranlage, die auf höchste Prozessflexibilität ausgelegt ist. Es ist ein Hochleistungssystem, das sich ideal für die Verarbeitung einer Vielzahl von Substraten eignet, darunter harte und weiche Materialien, dünne Metallschichten, Metalle, Dielektrika und Low-K-Dielektrika. VARIAN M2 000 bietet eine Reihe von Prozessfähigkeiten und Support-Optionen. Es ist mit einer 3-Position-Lastsperre ausgestattet, die Proben bis 200 ° C vorevakuieren kann, und ist mit einer Hochleistungs-Sputterkathode ausgestattet, die eine Abscheidung von bis zu 950 nm/min ermöglicht. Der Sputterprozess kann auf bestimmte gewünschte Ergebnisse abgestimmt werden, und die Betriebsparameter der Einheit können für spezifische Prozesse wie die Abscheidung einer oxidationsbeständigen Beschichtung aus Titan oder Chromoxid optimiert werden. M 2000 kommt auch mit einer eingebauten Substrat-Heiz- und Kühlmaschine, die eine einheitliche Kontrolle der Substrat-Temperatur während der Verarbeitung bietet, und kann bis zu vier Target-Substrate in jeder Kammer aufnehmen. Es enthält auch ein Pulsed Plasma Deposition Tool, das eine breite Palette von Prozessoptionen ermöglicht, einschließlich schnelles Sputtern von dünnen Filmen und einheitliche Verunreinigungskontrolle in Dotierungsprozessen. Das Asset ist mit einem hochmodernen Prozesssteuerungsmodell integriert, um wiederholbare und zuverlässige Leistung zu gewährleisten. Die Software-Benutzeroberfläche ist intuitiv und ermöglicht es dem Benutzer, Prozessparameter einfach einzurichten und zu speichern, die Geräteleistung zu überwachen und Ergebnisse zu analysieren. Das System unterstützt auch mehrere Kommunikationsschnittstellen zu PC-gesteuerten Systemen sowie zu externen Instrumentations- und Robotik-Controllern. M2 000 ist auch für eine einfache und flexible Installation mit einem kompakten Design konzipiert, das in bestehende Einrichtungen und Systeme integriert werden kann. Seine Portabilität und geringe Größe machen es ideal für den Betrieb in hohen Produktionsumgebungen. Darüber hinaus ermöglicht sein geschlossenes Gehäuse einen sauberen und sicheren Betrieb, während seine Schränke darauf ausgelegt sind, Wartungsarbeiten zu minimieren und Ausfallzeiten zu reduzieren. Insgesamt ist VARIAN M 2000 eine leistungsstarke und leistungsfähige Sputtereinheit, die eine ideale Plattform für Anwendungen wie Dünnschichtabscheidung, Sputtern, Ätzen und andere verwandte Verarbeitung bietet. Es bietet eine breite Palette von Parametern zur Optimierung von Prozessen und sorgt für zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse. Seine intuitive Benutzeroberfläche und Prozesskontrollmaschine bieten eine benutzerfreundliche Erfahrung, während seine kompakte Größe und Portabilität es einfach machen, in jeder Umgebung zu installieren und zu bedienen.