Gebraucht VARIAN / NOVELLUS M2000 #188108 zu verkaufen

VARIAN/NOVELLUS M2000 ist eine Hochleistungs-Sputteranlage für die Abscheidung von dünnen Schichten in fortgeschrittenen Halbleiteranwendungen. Dieses System besteht aus drei verschiedenen Modulen - der Sputterkammer, der Impulse Plasma Gun und der Hardware-Plattform. Die Sputterkammer ist das Herzstück der VARIAN M2000 Einheit und dient zur Ionenbombardierung und Abscheidung dünner Filme auf Wafern. Die Kammer ist mit zwei Prozesskammern für bis zu fünf unabhängige Targets für maximale Betriebszeit ausgestattet. Die Kammer verwendet eine Hochleistungs-DC/RF Dual Magnetron Sputter-Quelle mit variabler Spannung, Frequenz und Leistung für die Abscheidung und Ätzung. Diese Maschine bietet ausgezeichnete Gleichmäßigkeit, Stabilität und Konsistenz bei Sputtervorgängen. Die Impulse Plasma Gun ist ein Zusatzmodul, das Ionenbeschuss und Tieftemperatur-Plasmareinigung ermöglicht. Dieses Werkzeug ist in der Lage, Sputterätzen, Oberflächenreinigung, Aktivierung und chemisches Ätzen ohne Auswirkungen auf Filmdicke oder Mikrostruktur. Darüber hinaus eignet sich die Impulse Plasma Gun für Low-End-Gasflussraten zur Regelung, Erhöhung der Prozesswiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit. Die Hardwareplattform spielt eine wesentliche Rolle bei der Leistung und Effizienz von NOVELLUS M 2000 Asset. Die Plattform bietet modulares Design für unterschiedliche Prozesskonfigurationen und Skalierbarkeit für fortschrittliche Prozesstechnologien. M2000 bietet ein leistungsstarkes PC-basiertes Steuerungsmodell mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle zur Prozessüberwachung und Datenerfassung. Darüber hinaus unterstützt die Plattform kundenspezifische Designsoftware für Prozessparameteroptimierung, Werkzeugintegration, Fehlerdiagnose und Ertrags-/Prozessoptimierung. Insgesamt ist VARIAN/NOVELLUS M 2000 eine fortschrittliche DC/RF-basierte Sputterausrüstung, die entwickelt wurde, um hervorragende Filmabscheidungsqualität, Gleichmäßigkeit und Durchsatz sicherzustellen. Dieses System bietet eine außergewöhnliche Prozesswiederholbarkeit für die Herstellung und Produktion fortschrittlicher Halbleiterbauelemente.