Gebraucht VARIAN / NOVELLUS M2i #9153571 zu verkaufen

VARIAN/NOVELLUS M2i ist ein hochmodernes Abscheidewerkzeug, das physikalische Aufdampftechnologie (PVD) verwendet, um dünne Filme auf Substraten abzuscheiden. VARIAN M2i verfügt über eine duale Revolverarchitektur, mit der Benutzer schnell zwischen äußeren Abschirmungen, oberen und unteren Abschirmungen und Substratsputterprozessen wechseln können. Dieses System ist in der Lage, hochwertige, hochleistungsfähige Beschichtungen mit minimierter Partikelverschmutzung und prozessabhängiger Substraterwärmung zu schaffen. Das System besteht aus zwei unabhängig voneinander gesteuerten Türmen mit zwei unabhängigen Stromversorgungen. Die Türme sind in der Lage, zwischen drei unabhängigen Prozessen zu wechseln, einschließlich äußerer Schirmsputter, oberer und unterer Schirmsputter und Substratsputter. Das äußere Abschirmverfahren nutzt eine parallele Platte HF-Quelle mit einer maximalen Leistung von 400W, um den äußeren Umfang des Substrats zu zerstäuben und das Substrat vor Prozessprodukten thermisch abzuschirmen. Dieser Prozess trägt dazu bei, die Partikelverschmutzung und die Substraterwärmung während des Abscheidungsprozesses zu minimieren. Die oberen und unteren Abschirmungsprozesse verwenden zwei zusätzliche HF-Quellen, wobei jede Quelle eine maximale Leistung von 400W liefert. Diese Quellen sind in einem Winkel zum Substrat ausgerichtet, so daß die Ionen vom Substrat weg gerichtet sind und im Bereich der Ionenkollision höhere Prozesstemperaturen aufrechterhalten. Zusätzlich wirken die obere und untere Abschirmung als zusätzliche Wärmedämmung und ermöglichen es dem Abscheidematerial, die Oberfläche des Substrats langsam zu bedecken. Schließlich verwendet das Substratsputterverfahren eine Gleichstromquelle (DC) mit einer maximalen Leistung von 600W, um das Material direkt auf das Substrat zu sputtern. Dieses Verfahren trägt dazu bei, dass eine gleichmäßige Folie abgeschieden wird und der Abscheidungsprozess sehr effizient ist. Insgesamt ist NOVELLUS M2i ein äußerst vielseitiges Sputtersystem, das qualitativ hochwertige, präzise Beschichtungen mit minimalen Substratschäden und Partikelverunreinigungen herstellen kann. Dieses hocheffiziente PVD-Verfahren ist ideal für den Einsatz in einer Vielzahl von Dünnschichtanwendungen, einschließlich magnetischer Aufzeichnungsmedien, harter Beschichtungen und optischer Filme.