Gebraucht VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 HT #77413 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 77413
CVD system, 3 chamber WSi CVD, 8"
Turned off and de-installed late 2007
Maintenance by: TEL
Secs/gem: yes
CE Mark: yes
SW Version UI V4.8HL
In elect rack: 3x Ebara TMP controller (306W), labelled for PM RH TMP, PM LH TMP, T-M TMP; CVD Utility controller
Main Frame MBB730 (3 chambers)
Maintenance Table
UI-Rack
Additional breaker box
MBB-730 Main Power Distribution
Power Rack
Edwards D150 dual GRC, qty 3 , Edwards PN A55222110, 208v 3 PHASE Weigt: 380 KG
Chiller TEL: 3
Box with cable/Process kit/manuals
Gases:
N2 (ox) 4 l/min
N2 (red) 125 l/min
Ar 1500 sccm
WF6 15 sccm
ClF3 1500 sccm
DCS 1500 sccm
1996 vintage.
TEL MB2-730 High-Throughput Sputtering Equipment ist ein Sputtersystem für Fertigungs- und Forschungsanwendungen. Dieses Gerät ist ideal für die nanoskalige Abscheidung und bietet ein überlegenes Maß an Prozesskontrolle, Leistung und Zuverlässigkeit. Es verfügt über eine Dual-Magnetron-HF-Sputterquelle sowie eine fortschrittliche multifacetierte Ionisation und DC-Sputterziele, die in der Lage sind, hochwertige, gleichmäßige dünne Filme zu produzieren. Die Maschine verfügt auch über eine integrierte Hochvakuumkammer, die in der Lage ist, einen ultrahohen Vakuumspiegel für die hochreine Filmabscheidung zu erreichen. Das Tool bietet eine Reihe von hervorragenden Funktionen, die es ideal für eine Reihe von industriellen und akademischen Anwendungen machen. Es verfügt über eine Quick-Response-Control-Suite, die es dem Asset ermöglicht, während des Betriebszyklus am oder nahe dem Höhepunkt seiner Prozessleistung zu arbeiten. Dies reduziert den Bedarf an Rekalibrierung und spart Zeit während der Produktion. Das Modell hat auch mehrere Konfigurationsoptionen, um verschiedene Arten der Filmabscheidung sowie verschiedene Sputter-Zielmaterialien zu ermöglichen. Die MB2-730 Sputterausrüstung mit hohem Durchsatz ist auch mit erweiterten Energieverwaltungsfunktionen ausgestattet. Dieses System verfügt über eine geräuscharme Stromversorgung, die für einen optimalen Wirkungsgrad optimiert ist und eine überlegene Stromversorgung und einen minimierten Stromverbrauch bietet. Die Stromversorgung ist sowohl mit DC- als auch mit RF-Sputterquellen kompatibel und bietet eine Reihe von Ausgangspegeln für verschiedene Zielmaterialien und Substratgrößen. Außerdem weist die Einheit eine Ionenquelle auf, die die Dicke der abgeschiedenen Folie durch eine höhere Konzentration von Ionen während des Abscheidungsprozesses verlängert. Dies reduziert den Bedarf an mehreren Abscheidezyklen, was zu kürzeren Produktionsläufen und geringeren Produktionskosten führt. Darüber hinaus ermöglicht es eine einfachere und präzisere Kontrolle des Sputterprozesses, was zu gleichbleibenden Filmdicken und Gleichmäßigkeit führt. Schließlich ist die MB2-730 Hochdurchsatz-Sputtermaschine mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen gebaut, um den sicheren Betrieb des Werkzeugs sowohl in industriellen als auch in akademischen Umgebungen zu gewährleisten. Zu den Sicherheitsmerkmalen gehört eine abdichtbare Kammer, mit der die Hochleistungs- und Gleichstrom-Hochleistungsquellen isoliert werden können, wodurch das Personal während des Betriebs nicht in den aktiven Bereich gelangt. Darüber hinaus verfügt die Anlage über ein Echtzeit-Sicherheitsmodell, das die thermischen, mechanischen und elektrischen Bedingungen der Ausrüstung und aller Probenmaterialien überwacht und einen sicheren und genauen Betrieb für jeden Auftrag gewährleistet.
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