Gebraucht VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830 #9274362 zu verkaufen

VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830
ID: 9274362
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
Sputtering system, 8" CTI-CRYOGENICS OB-8 (3) Chambers TiN 1995 vintage.
VARIAN / TELEFON / ist ELEKTRON MBB 830 von TOKIO eine leistungsstarke stotternde Ausrüstung, die zur Durchführung sowohl thermischer als auch Gleichstrom magnetron fähig ist, stottern Absetzungsprozesse. Dieses vielseitige System eignet sich ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, darunter die Herstellung von optisch aktiven Terahertz-Filmen, Metall- und Halbleiterfilmen, Beschichtungen für High-End-optische Bauelemente und elektrische Bauelemente. Das Design von TEL MBB 830 sorgt für einen sicheren und zuverlässigen Betrieb. Ein einzigartiger keramischer Behälter ist enthalten, der mit oder ohne Kohlenstofffluorid-Quellbehälter zum Schutz und zur Aufnahme des Sputterprozesses verwendet werden kann. Für optimale Sicherheit verfügt das Gerät über mehrere Sicherheitsmerkmale. VARIAN MBB 830 ist mit einem Not-Aus/Rücksetzknopf, einer Gehäuseverriegelung, einer Temperaturerfassungseinrichtung und einem Überdruckauslöseventil ausgestattet. MBB 830 verwendet eine Standard-Sputterkammer mit einem Viewport und einer 12-Positionen-Waferkassette. Dieses Design ist ideal für großflächige Filmabscheidungen sowie für kleine Forschungs- und Entwicklungszwecke. Darüber hinaus ist TOKYO ELECTRON MBB 830 in der Lage, sowohl mit nicht-reaktiven (wie Al und Si) als auch reaktiven (wie Oxid) Sputtergasen zu arbeiten, um eine maximale Filmgenauigkeit und Gleichmäßigkeit zu erreichen. Die Maschine wird auch mit einer fortschrittlichen, benutzerfreundlichen Bedienkonsole geliefert. Dies hilft Benutzern, ihre Ablagerungsaufträge zu programmieren und ermöglicht es ihnen, den Fortschritt in Echtzeit zu überwachen. Die Konsole ist mit einer aktiven Verpackung ausgestattet, die eine Waferübertragung, eine Automatisierung des Kammerdrucks und die Zugabe reaktiver Gase für eine verbesserte Abscheidungsgenauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830 enthält auch eine Vielzahl von Prozesswerkzeugen und Materialien, um überlegene Abscheidungsergebnisse zu erzielen. Dazu gehören ein mechanischer Stromzuführer, eine Niedertemperatur-Nachglühkammer und eine Hochtemperatur-Backkammer, die alle auf spezifische Projektanforderungen zugeschnitten werden können. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, mit zahlreichen Sputterquellen wie planaren, rotatorischen und linearen Quellen zu arbeiten. Kurz gesagt, TEL MBB 830 ist eine zuverlässige, flexible Sputteranlage, die mit mehreren Sicherheitsmerkmalen und Prozesswerkzeugen für maximale Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit ausgestattet ist. Sie eignet sich ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, von großen optisch aktiven Filmproduktionen bis hin zu kleinen Forschungs- und Entwicklungsprojekten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor