Gebraucht VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830 #9294765 zu verkaufen

VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830 Sputter Equipment ist ein vielseitiges, hochmodernes Abscheidesystem für Dünnschichtprozesse. Dieses Gerät verwendet eine Kombination aus Gleichstrom (DC) und Hochfrequenz (HF) -Leistungsquellen, um Materialien schnell und effektiv zu sputtern. Diese Maschine kann Metalle, Legierungen, Dielektrika und Halbleiterverbindungen in einer Vielzahl von Anwendungen abscheiden. Es enthält eine DC Planar Magnetron Sputterquelle, vier unabhängige RF Plus Planar Magnetron Quelle und drei Wände von Target oder rotierende Trommel-Typ Pelletron Source. Die DC Planar Magnetron-Quelle bietet die Fähigkeit, Metalle oder Dielektrika bei niedrigen Substrattemperaturen zu sputtern, während die HF-Quellen die thermische Stabilität des reaktiven Sputterns und die Fähigkeit zum Sputtern von Verbindungen bieten. Die Pelletronquelle kann für feuerfeste Metalle oder härter sputternde Materialien verwendet werden. Das Werkzeug enthält verschiedene andere Komponenten, um eine gleichmäßige Folienabscheidung zu gewährleisten. Es gibt einen am Boden angebrachten Abtastmechanismus, der das Substrat um die Vakuumkammer herum bewegt. Die Substratstufe kann mit fortschrittlicher Steuereinrichtung oder mit einer multidirektionalen mechanischen Abtastung ausgestattet sein, die dem Bediener mehr Kontrolle und Flexibilität gibt. Das Vakuummodell umfasst die Prozesskammer, das Absperrventil, die mechanische Pumpausrüstung und die Turbopumpe, um das Vakuumniveau von 1 x 10-8 Torr kontinuierlich für Filme höchster Qualität zu halten. Dieses System umfasst auch eine Edelstahl-Handschuhbox für die Handhabung von Substraten, um Kontaminationen zu minimieren. Diese Sputtereinheit wird von einem fortschrittlichen programmierbaren Touchscreen-Controller verwaltet, mit dem der Bediener bequem auf alle Abscheideparameter zugreifen kann. Darüber hinaus können Anwender die Parameter an ihre spezifischen Beschichtungsanwendungen anpassen. TEL MBB 830 ist für eine gleichbleibend effiziente Abscheidung dünner Filme ausgelegt. Die variablen Leistungseinstellungen der Maschine können auf optimale Abscheideraten und Gleichmäßigkeit eingestellt werden. Die Quellen können auch einfach von einem Substrat zum anderen umgeschaltet werden. Darüber hinaus kommt das Werkzeug mit einer kleinen Stellfläche und ist eine gute Wahl für begrenzten Laborraum. Dieses Asset bietet leistungsstarke Sputterfunktionen mit einer einfach zu bedienenden grafischen Benutzeroberfläche.