Gebraucht VCR GROUP IBS / TM200S #9246303 zu verkaufen

ID: 9246303
Ion Beam Sputtering (IBS) system With 200 I/s turbo-molecular pump Ion-beam gun Quartz crystal thickness monitor 4-Position target carrier Liquid nitrogen cold trap Argon gas flow: 5-10 psi, 1.5 sccm, 99.999 % pure Nitrogen gas flow: Turbo molecular pump bleed Water flow: 30 GPH, clean water Electrical: Interlocked to prevent high voltage shock 110 VAC, 50/60 Hz, 15 Amps.
VCR GROUP IBS/ TM200S ist eine Sputterausrüstung, die hauptsächlich für die physikalische Aufdampfung von dünnen Filmen verwendet wird. Es nutzt die Leistung des Ionenbeschusses während des Dünnschichtabscheidungsprozesses, wodurch es sich besonders gut für PVD (Physical Vapor Deposition) -Technologien eignet. IBS/ TM200S wird von einem 9-Achsen-Bewegungssteuerungssystem betrieben und ist in der Lage, verschiedene Sputterprozesse zu erzeugen, die von unidirektionalem bis zu polaritäts-umgekehrtem Sputtern reichen. Der Sputterprozess nutzt eine Hochspannungsversorgung und Kathode (Target) zusammen mit einer Abschirmkathode, um das Plasma zu steuern und das gewünschte Abscheidedickenprofil zu erzeugen. Der Sputterprozess wird eingeleitet, wenn das Ziel mit einem Ionenstrahl bombardiert wird. Diese Beschießung erwärmt die Targetoberfläche und verdampft Atome, die dann in einem gleichmäßigen, richtungslosen Strahl auf das mit der Sputterkammer in Kontakt stehende Substrat beschleunigt werden. Während sich die energetischen Atome auf das Substrat zubewegen, trifft es auf einen Schild, der die energetischen Atome teilweise reflektiert und den abgeschiedenen Film an der gewünschten Stelle bilden lässt. Durch Regelung der Verdampfungsrate des Zielmaterials kann die Dicke des Dünnfilms eingestellt werden. VCR GROUP IBS/ TM200S wurde speziell entwickelt, um die Genauigkeit der Abscheidungsdicke, Gleichmäßigkeit und Homogenität der Folie auf großen Substraten zu verbessern. Zusätzlich zum Sputtern ist IBS/ TM200S in der Lage, den Transport von Wafern zu kontrollieren. Es verwendet eine automatisierte Waferübertragungseinheit, um sowohl den Wafereinsatz als auch die Entnahme aus der Sputterkammer zu steuern. Diese Maschine fungiert als Endeffektor und ist ein wichtiges Sicherheitsmerkmal, das die Sicherheit der Probe gewährleistet. VCR GROUP IBS/ TM200S ist auch mit Funktionen wie einem Lastverriegelungswerkzeug, einem Gerät zur Steuerung der Dicke der geschlossenen Schleife und einem Auto-Start-up-Modell ausgestattet. Alle diese Funktionen kommen zusammen, um IBS/ TM200S zu einer idealen Wahl für physikalische Aufdampfanwendungen zu machen.
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