Gebraucht VEECO / CVC CX 6 #9279634 zu verkaufen

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VEECO / CVC CX 6
Verkauft
Hersteller
VEECO / CVC
Modell
CX 6
ID: 9279634
System (4) PVD Chambers (One has missing parts) Spare parts.
VEECO/CVC CX 6 ist eine Sputteranlage zur Dünnschichtabscheidung verschiedener Materialien. Das System ist für industrielle Produktions- und Forschungsanwendungen konzipiert und verfügt über ein Gleichstrom (DC) -Magnetron, eine Multizielkonfiguration, Computerscannen und synchronisiertes Substrathandling. CVC CX 6 verwendet ein fortschrittliches DC-Magnetron, das in der Lage ist, sich mit einem weiten Bereich von Abscheideraten abzuscheiden, von niederwinkligen gleichförmigen Filmen bis hin zu konformen Filmen hoher Rate. Es ist mit einer Multi-Target-Konfiguration ausgestattet, die es ermöglicht, mehrere Materialien einfach in einem Zyklus abzuscheiden. Die Einheit hat auch ein Merkmal namens „eVec“, das eine optimierte Substratkapazität bei der Abscheidung auf Substraten mit dielektrischen Schichten ermöglicht. VEECO CX 6 verfügt außerdem über eine automatische Computerscanfunktion, die eine hohe Genauigkeit und wiederholbare Filmabscheidung ermöglicht. Computerscannen ermöglicht es dem Benutzer, bestimmte Bereiche in einem bestimmten Substrat genau zu sputtern und sicherzustellen, dass Bereiche gleichmäßig gesputtert werden. Die Maschine enthält auch eine Steuerung, die für die Synchronisation der Substrathandhabung relativ zum Sputtervorgang zuständig ist. Dadurch wird sichergestellt, dass zwischen den Zykluszeiten keine Zeit verschwendet wird. Die CX 6 verfügt über ein flexibles Vakuumwerkzeug, mit dem je nach Ablagematerial unterschiedliche Vakuumdruckstufen verwendet werden können. Das Asset verfügt auch über eine leistungsstarke 1000W DC-Quelle, die in der Lage ist, ein großes Array von Energie und gepulste Profile für jede Anwendung zu erzeugen. VEECO/CVC CX 6 ist ein zuverlässiges industrielles Sputtermodell, das in der Lage ist, eine Vielzahl von dünnen Folien genau zu produzieren. Die Kombination aus Computerscannen, Multizielkonfiguration und synchronisiertem Substrathandling machen es zu einer idealen Sputterausrüstung für Industrie- und Forschungsanwendungen.
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