Gebraucht VEECO Spector #9004435 zu verkaufen

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Hersteller
VEECO
Modell
Spector
ID: 9004435
Parts System Ion Source 16cm Body: OK Grids w/ quartz: NG Cables: OK Power supplies: NG (can be prepared with additional cost) RFN: Only feedthrough (w/ matching box) Ion Source 12cm Body: OK Grids w/ quartz: NG Cables: OK Power supplies: NG (can be prepared with additional cost) RFN: Only feedthrough (w/ matching box) ITAVS: NG, it has been removed so the system does not work well GFC1100: NG OMS: OK PC's: OK (Unfortunately cannot be tested without ITAVS Motor Driver: NG Targets w/ Backing plates: NG Target Motion control: OK High Speed Substrate fixture: OK Touch screen on the display monitor: NG Display Monitor: For control: NG, For OMS: OK MFC: OK Manuals: OK.
VEECO/DEKTAK Spector ist eine Sputteranlage für Anwendungen in den Bereichen Photonik, Optoelektronik, medizinische Implantatentwicklung und Quantengeräteforschung. Dieses System ermöglicht die Dünnschichtabscheidung von Metallen, Isolatoren und Halbleitern, um nanoskalige Strukturen auf einem Substrat zu entwickeln. Das VEECO Spector-Modell ist die neueste Version der VEECO-Familie und bietet Funktionen und Funktionen, die bisher in Sputtersystemen nicht verfügbar sind. DEKTAK Spector verfügt über vier separate Sputterkammern mit jeweils individuellen Prozesssteuerungs- und Abscheidungsparametern. Diese Kammern werden von einer unabhängigen Plasmaquelle angetrieben, die ein hocheffizientes und wiederholbares Sputtern von hartmagnetischen Materialien ermöglicht. Spector hat auch eine fortschrittliche Sputterelektrodeneinheit mit hochflexibler Einstellung für die Abstands- und Winkelregelung. Dies gibt den Forschern die Möglichkeit, den Gesamtenergiefluss und die Geschwindigkeit des zerstäubten Materials über eine Vielzahl von Parametern einzustellen. Darüber hinaus sorgt die Substratschutzmaschine von VEECO/DEKTAK Spector dafür, dass die abgeschiedenen Folien während des Prozesses unverseucht bleiben. Ein wesentliches Merkmal von VEECO Spector ist seine Dual-Magnetfeld-Source-Konfiguration. Dies bedeutet im wesentlichen, daß zur Steuerung des Zerstäubungsprozesses zwei Magnete mit wechselnder Polarität verwendet werden. Dies ermöglicht eine präzisere Kontrolle des Parameterbereichs und ermöglicht eine gleichmäßige und wiederholbare Abscheidung. Darüber hinaus reduziert dieses Tool auch die Kollateralschäden durch Ionenkollisionen mit der Ziel- und Substratoberfläche, so dass Forscher dauerhaftere nanoskalige Strukturen erstellen können. DEKTAK Spector verfügt auch über ein hochmodernes Kammerdesign und Steuerungsmittel. Dies gibt Forschern die Möglichkeit, alle Parameter während des Sputterprozesses wie Druck, Temperatur und Zeit genau zu steuern. Darüber hinaus verfügt Spector über ein integriertes Parameteroptimierungsmodell, mit dem die Parameter automatisch angepasst werden können, um die Prozesseffizienz zu maximieren. Dies erleichtert die Problembehandlung während des Abscheidungsprozesses. Abschließend ist VEECO/DEKTAK Spector eine fortschrittliche Sputterausrüstung, die Funktionen und Funktionen bietet, die bisher nicht verfügbar waren. Die Dual-Magnetfeld-Plasmaquelle, Präzisionskontrollparameter und das Parameteroptimierungssystem ermöglichen den Forschern eine äußerst präzise Kontrolle des Abscheidungsprozesses. So können Forscher nanoskalige Strukturen und Komponenten für eine Vielzahl von Anwendungen entwickeln, die extrem hohe Leistung und extreme Haltbarkeit erfordern.
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