Gebraucht VON ARDENNE CF 850S #9300986 zu verkaufen
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VON ARDENNE CF 850S ist eine Hochleistungs-Sputteranlage, die für überlegene Beschichtungsabscheidungsprozesse entwickelt wurde. Dieses System ist all-in-one, mit einer Kammer zum Beschichten, und eine andere zum Glühen. Das Gerät verfügt über eine ultrapräzise Positioniermaschine zum Sputtern von Zielen mit einer maximalen Wiederholbarkeit von +/- 0,02 mm. Dies ermöglicht präzise homogene Ablagerungen über große Flächen. CF 850S ist ein Magnetron-Sputterwerkzeug mit Last-Verschluss, geeignet für gleichmäßige dicke und dünne Filme aus leitfähigen, isolierenden und halbisolierenden Dünnfilmbeschichtungen. Es ist in der Lage, Sputter mit Raten von bis zu 1500 W/in2 mit einer Gleichmäßigkeit von +/- 4%. Diese Anlage kann bis zu drei Vakuumkammern und bis zu neun Ziele aufnehmen und eignet sich somit ideal für mehrschichtige Ablagerungen. Das Modell verfügt auch über eine On-Board-Sputter-Steuereinheit, die den Gasfluss, den Druck, das Gasverhältnis, die Temperatur und andere Prozessparameter regulieren kann. Das Gerät verfügt auch über eine intuitive Benutzeroberfläche für einfache Bedienung und eine Vielzahl von Sicherheits- und Überwachungssystemen, von Temperatursensoren und Ionenmessgeräten bis hin zu substratspezifischen Lastsensoren und Metallabscheidungssteuerung. VON ARDENNE CF 850S ist für den Betrieb in Reinraumumgebungen konzipiert, mit hermetischer Abdichtung, Vibrationsisolierung und luft- und wassergekühlten elektrischen Paneelen, um Sicherheit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Die Kammer verfügt über einen Standard 18 „x 18“ x 15 „Arbeitsbereich, mit einem ~ 40“ x 40 „x 80“ optionale Grundfläche für größere Substrate. Es ist für den Betrieb in einem breiten Geschwindigkeitsbereich von wenigen Millimetern pro Sekunde bis zu 2000mm/sec ausgelegt. Durch die Verwendung dieses Sputtersystems kann eine Vielzahl von Folien und Beschichtungen mit minimalem Material- und Energieverbrauch abgeschieden werden. Dies ermöglicht eine flexible, kostengünstige Möglichkeit, qualitativ hochwertige, gleichmäßige Dünnschichtprodukte herzustellen. Darüber hinaus bietet dieses Gerät eine Reihe von Optionen und Funktionen für mehr Flexibilität, einschließlich der Steuerung von Prozessparametern, Druckprofilen und Ziel-zu-Substrat-Abstand.
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