Gebraucht ALLIED HIGH TECH PRODUCTS X-Prep #293812078 zu verkaufen

ID: 293812078
Milling, grinding, and polishing system Specialized CNC-based machine for electrical and physical failure analysis (EFA/PFA) X and Y axis: 1 µm resolution, 100 x 100 mm stage travel Z-axis: Closed-loop design, 0.1 µm resolution, 1 µm accuracy Dual-axis tilt control, 0.5 µm resolution Three modes of Z-axis control: Position, Position Force, and Floating Force Variable spindle RPM: 5,000 – 100,000 Pneumatic tool change 12" color touchscreen High definition (720p) live video.
ALLIED HIGH TECH PRODUCTS X-Prep ist eine vielseitige und fortschrittliche Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung für die Präzisionsbearbeitung verschiedener Materialien, die in der Halbleiter-, Elektronik- und Materialwissenschaft verwendet werden. Dieses hochmoderne System bietet eine Reihe von Möglichkeiten, um eine optimale Oberflächengüte und Ebenheit zu erreichen, die für kritische Anwendungen wie Waferbearbeitung, Geräteherstellung und Materialcharakterisierung erforderlich sind. Die X-Prep-Einheit ist mit einer Hochgeschwindigkeits-rotierenden Platte ausgestattet, die einen effizienten Materialabtrag während der Schleif- und Läppprozesse ermöglicht. Diese Platte wird von einem leistungsstarken Motor angetrieben und kann so gesteuert werden, dass genaue Drehzahl und Drehrichtung für einen gleichmäßigen Materialabtrag über die Waferoberfläche erreicht werden. Die Maschine verfügt auch über eine programmierbare Steuerschnittstelle, mit der Benutzer bestimmte Parameter wie Druck, Geschwindigkeit und Zeit für den automatisierten Betrieb und reproduzierbare Ergebnisse einstellen können. Zum Waferschleifen verwendet ALLIED HIGH TECH PRODUCTS X-Prep-Werkzeug Schleifscheiben oder Diamantschleifscheiben, um Material von der Waferoberfläche zu entfernen. Diese Schleifwerkzeuge sind in verschiedenen Korngrößen erhältlich, um unterschiedlichen Materialhärte- und Oberflächenrauhigkeitsanforderungen gerecht zu werden. Die Anlage verwendet ein wasserbasiertes Kühlmittelliefermodell, um eine effiziente Wärmeableitung und Schmutzabfuhr während des Schleifprozesses zu gewährleisten, wodurch thermische Schäden verhindert und eine konstante Schleifleistung aufrechterhalten wird. Im Läppmodus verwendet die X-Prep-Ausrüstung eine flache Läppplatte, die mit einem feinen Schleifschlamm beschichtet ist, um hochpräzise Ebenheit und Oberflächengüte auf dem Wafer zu erzielen. Der Läppvorgang beinhaltet die Drehbewegung des Wafers gegen die Läppplatte unter kontrolliertem Druck, wodurch Materialabtrag und Oberflächenveredelung möglich sind. Das System ist mit einer Präzisionsdrucksteuerung ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, das gewünschte Druckniveau für eine optimale Läppleistung einzustellen und beizubehalten. Die Polierfähigkeit der ALLIED HIGH TECH PRODUCTS X-Prep-Maschine wird durch die Verwendung von weichen Polierkissen und Poliermassen erreicht, die helfen, spiegelartige Oberflächengüte und Ebenheit des Submikronniveaus auf dem Wafer zu erreichen. Das Werkzeug verfügt über einen Polierkopf mit zwei Bewegungen, der sowohl eine Rotations- als auch eine Orbitalbewegung während des Polierprozesses ermöglicht und eine gleichmäßige Materialabtragung und Oberflächenveredelung über die gesamte Waferoberfläche gewährleistet. Zusätzlich ist die Anlage mit einem programmierbaren Polierparameter-Steuermodell ausgestattet, mit dem Benutzer Variablen wie Druck, Geschwindigkeit und Polierzeit für kundenspezifische Polierergebnisse anpassen können. Insgesamt ist X-Prep eine hochmoderne Lösung für Wafer-Schleif-, Läpp- und Polieranwendungen, die fortschrittliche Funktionen bietet, um eine präzise Materialabtragung, Oberflächengüte und Ebenheit zu erreichen, die für Hochleistungs-Halbleiter- und Materialwissenschaftsanwendungen erforderlich sind. Mit seinem robusten Design, erweiterten Steuerungsfunktionen und vielseitigen Betriebsmodi bietet das ALLIED HIGH TECH PRODUCTS X-Prep-System den Anwendern die Flexibilität und Präzision, die erforderlich ist, um den anspruchsvollen Anforderungen moderner Waferbearbeitungs- und Materialcharakterisierungsprozesse gerecht zu werden.
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