Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CMP 5201 #9093212 zu verkaufen

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ID: 9093212
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
Cleaner, 8" Process: PCUDCU SMIF Type. FABS Runs oxide application Mirra polisher Mesa cleaner FABS Cassette system System controller Polisher: MB60a1 Cleaner: CB22p2 Endpoint: IB11h7 CPU: Pentium III 400 MHz Dual RAID hard disk Hard disk size: 68 GB RAM: 128 MB Configurations: Polisher / with controller Mirra 3400 / 5200 Indexer RORZE FABS (3) Foup Slurry (P1+P2+P3) ABCD each Endpoint laser P1: IScan Endpoint laser P2: Full scan Polisher middle skins: Opaque UPA: Standard No chiller Com port server: Digi EL160 Cleaner brush LDM: User modified direct feed LDM With ENTEGRIS flow sensors Walking beam: PEEK Fingers with PP grippers Slurry in CLC Slurry arm 4 lines Polishing head: Titan I Rotary union: 4 ports Cross type: Cattrack Platen teflon coated Pad conditioner type: Universal Retainer ring type: AEP III Membrane type: Center bump PC Diaphragm: Silicon Brush with core type: PP Core Upgrade / CIP Retrofit: LLA Guide pin: Self align Slider motor 200 W PM Reduction kit Queue tub Membrane UPA filter Blackout covers Splash guard Wind tunnel Exhaust blower Magnehelic pressure low level detection kit SRD Exhaust interlock Cassette slot run order (From slot 25 down to 1) 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CMP 5201 ist eine Präzisionsscheibenschleif-, Läpp- und Polierausrüstung, die entwickelt wurde, um die höchste Leistung und Qualität für Halbleiteranwendungen zu bieten. Dieses System verwendet einen automatisierten CMP-Prozess, um eine außergewöhnliche Kontrolle über die Schleif-, Läpp- und Polierprozesse zu gewährleisten, um die höchsten Oberflächengüten zu erzeugen. AMAT CMP 5201 verfügt über eine Reihe konfigurierbarer Parameter, mit denen Benutzer den Prozess nach Bedarf anpassen können, um Präzisionsergebnisse zu erzielen. Das Gerät ist mit einem hochpräzisen, schnellen Schleifkopf ausgestattet, der mit diamantgekippten Schleifscheiben das Material präzise in die Tiefe schleift. Der Schleifkopf weist außerdem eine verstellbare Steigung auf, die eine weitere Steuerung des Schleifvorgangs ermöglicht. Der Schleifprozess wurde entwickelt, um die Oberflächengüte zu verbessern, Fehler zu beseitigen und Abfälle zu reduzieren. APPLIED MATERIALS CMP 5201 ist auch mit einem Läppmodul zum Polieren des Wafers auf ein gewünschtes Finish ausgestattet. Das Läppmodul verwendet eine Kombination aus Diamantlappmassen und Polierkissen, um die Oberfläche des Wafers zu schleifen und zu polieren. Bei diesem Verfahren entsteht eine hochreflektierende Oberfläche, die sich hervorragend für den Einsatz in Halbleiteranwendungen eignet. CMP 5201 wurde auch mit einem Wafer-Fasenmodul integriert, das eine genaue Abschrägung der Wafer ermöglicht. Diese Technologie verwendet diamantgekippte Klingen, um einheitliche und konsistente Fasenschnitte an den Kanten der Wafer zu erzeugen. AMAT/APPLIED MATERIALS CMP 5201 hat auch einen voll modularen Aufbau, der es Anwendern ermöglicht, die Maschine an spezifische Prozessanforderungen anzupassen. Der modulare Aufbau macht es einfach, das Werkzeug neu zu konfigurieren, um neue Prozessanforderungen zu erfüllen oder mit anderen Komponenten des Produktionsprozesses zu integrieren. Insgesamt ist AMAT CMP 5201 eine hocheffektive Bereicherung für die Herstellung von präzisen Fertigwafern für den Einsatz in Halbleiteranwendungen. Die Kombination aus zuverlässiger Schleif-, Läpp- und Poliertechnik macht es zu einer idealen Wahl für den Einsatz in Produktionslinien und für die Erzielung höchster Halbleiterleistungen.
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