Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Mirra Mesa #9222045 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Mirra Mesa ist ein automatisiertes Wafer-Schleif-, Läpp- und Poliergerät zur Herstellung von Halbleiterscheiben für fortschrittliche Dünnschichtprozesse. Es ist in der Lage, Wafer in einem einzigen System zu schleifen, zu läppen und zu polieren, wodurch die Notwendigkeit mehrerer Ausrüstungsgegenstände entfällt. AKT Mirra Mesa ist eine hochmoderne, hocheffiziente Einheit. Zu den Funktionen gehören vollautomatisches Schleifen, Läppen und Polieren von Zykluszeiten sowie Roboterbeladen und Entladen von Wafern sowie globales Kommando und Steuerung. Es bietet einen hohen Durchsatz, qualitativ hochwertige Ergebnisse und kann bis zu 200 Wafer pro Stunde verarbeiten. Die Maschine ist in der Lage, Wafer bis 8 "Durchmesser zu schleifen, zu läppen und zu polieren. Seine Polierprozesse gewährleisten glatte, fehlerfreie Oberflächen mit Ultra-Low-K-Werten, was für Geräte, die extra dünne Folien benötigen, unerlässlich ist. Das Werkzeug verwendet auch MultiGrit™ Technologie, die die Anzahl der erforderlichen Polierschritte minimiert und eine gleichmäßige Oberflächengüte gewährleistet. AMAT Mirra Mesa ist konfigurierbar, um die spezifischen Anforderungen jedes Prozesses zu erfüllen. Der modulare Aufbau ermöglicht eine einfache Integration in bestehende Prozesse, während der hocheffiziente Betrieb minimale Betriebskosten ermöglicht. Darüber hinaus kann es mit Bedienerkonsolen sowie mit anderen Computern verbunden werden, um die Vermögenseffizienz zu maximieren. Das Modell ist auch sehr zuverlässig; Seine selbstüberwachenden und selbstkalibrierenden Fähigkeiten reduzieren Ausfallzeiten. Zum Schutz von Personal und Wafern sind auch Sicherheitssysteme vorhanden. Insgesamt, ANGEWANDTE MATERIALIEN Mirra Mesa ist eine hocheffiziente, fortschrittliche Scheibenschleif-, Läpp- und Polierausrüstung, die in der Lage ist, hochkonsistente Ergebnisse zu erzielen. Die Konfigurierbarkeit, der hohe Durchsatz und die geringen Betriebskosten machen es zur idealen Wahl für die anspruchsvollsten Halbleiterprozesse von heute.