Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Mirra Ontrak #114141 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 114141
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
CMP system, 8" flat
Components:
Main polisher module: Mirra 3400
Post cleaner module: Ontrack
Base box: cassette tub and box
Polisher cable cover
CMP 5201 controller
Operator desk:
(2) Monitors: FR 770, TW-LM-004
(2) Extensions
MPB700
(2) Multi power
Loader
(2) Cable boxes
Controller monitor desk
Specifications:
Wafer size: 8"
Wafer shape: flat
Application: Oxide
System: dry in / dry out
Process type: all
Device type: D-RAM
Device geometry: 0.09 microns
Consumed process material:
Polish slurry: STI
Buff slurry: none
Platen 1 pad: IC1010
Platen 2 pad: IC1010
Platen 3 pad: IC1010
Pad conditioner: snap on type
Pad conditioner head: modified DDF3 head
Pad conditioner holder: magnetic snap on / SAESOL
Factory interface options:
Cleaner type: Ontrack
Megasonics: no
Robot type: Ontrack side type
In situ removal rate monitor: digital
Inline metrology: none
SECS / GEM interface: yes, high-speed massage storage available
Cassette tank: yes
Cassette type: none
Installation type: through-the-wall
Integrated system basic FABS: FABS 212
Platen and head options:
Polishing head: (4) Titan I heads
Retaining rings: 4
Pad wafer loss sensor: yes
Platen temperature control: none
Slurry delivery options:
Slurry delivery: (3) slurries
Slurry flow rate: standard flow
Slurry flow monitor: yes
Slurry containment bulkhead: single containment
Slurry facilities: none
Slurry loop line: no
Slurry dispense arm: extended rinse arm
Slurry leak detector: no
DI water: yes
High pressure rinse: yes
System software:
Mirra type: Mirra Ontrack
Mirra software: N/A
Cleaner type: Ontrack
Cleaner software: N/A
Fabs type: standard
Fabs software: N/A
System safety equipment:
Red turn-to-release EMO button: standard
EMO guard ring: yes
Earthquake brackets: none
LO to disconnect polisher: N/A
Smoke detector: yes
Electrical requirements:
Line frequency: 50/60Hz
Line voltage: 200~230V
UPS battery: yes
Delta connection: yes
Power lamp: green
Power connected lamp: no
Circuit breaker: 230A
AC outlet box: 100V
Configurable I/O: no
Wide type GFI: 50mA
Umbilicals:
Polisher to controller cable: 75'
Controller to monitor cable: 75'
Slurry system interface cable: none
Factory hookup:
Upper exhaust: standard
Lower exhaust: none
Upper exhaust connection: 8"
Drain manifold: 4-line to facilities
Drain adapter: NPT fitting
Castors for Mirra system: no
Weight distribution plate (skid pad): yes
User interface:
Gray area: (1) monitor
Cleanroom: (1) monitor
Class 1 cart for 1 monitor: 1
Class 1 cart for 2 monitors: 0
Class 100 cart for 2 monitors: 0
Stainless carts: 1
PC mouse
Printer: none
Hard disk backup: no
Polisher / Fabs light tower:
Polisher tower mounting type: (4) lights
Polisher tower number of colors: (4) colors
Polisher tower colors sequence: RYGB
Cleaner options:
OnTrak cleaner: N/A
DNS cleaner: N/A
Mesa cleaner: yes
Manuals:
CD ROM: none
Standard paper manuals: none
Cleanroom paper manuals: none
Maintenance options:
Spray gun: single
Side panel window: none
Pad conditioner cover: none
Titan head rebuild kit: none
Consumables kit: none
Calibration box: none
Calibration box cable: none
English standard unit tool kit: none
Slurry flow calibration kit: none
Lapping stone: no
Robot door lock: N/A
Special options:
Nylon brush: no
EChain Teflon sheet: no
Low pressure release water: no
Spares:
Additional heads: 4
Warehoused
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Mirra Ontrak ist ein Wafer Schleifen, Läppen und Polieren Ausrüstung Techno entwickelt, um die Automatisierung in Halbleiterherstellungsprozessen zur Verfügung zu stellen. Es ermöglicht hochpräzises, mikropräzises Schleifen und Polieren für die Herstellung von Siliziumwafern für die Halbleiterindustrie und bietet Waferverdünnung, Kantenprofilierung, Fehlerentfernung und Oberflächenveredelung. Die Maschine ist so konzipiert, dass sie einen kostengünstigen und konsistenten Präzisionsbetrieb ermöglicht. Es hat einen vollautomatischen Betrieb und ist so konzipiert, dass es extrem schnell, effizient und präzise ist. Es verfügt über ein hochauflösendes, rückkopplungsgesteuertes Schleifsystem, mit dem Benutzer Vorschubgeschwindigkeit und Geschwindigkeit genau regeln können. Die Schleifeinheit ist mit flexiblen Sollwerten versehen, die es Anwendern ermöglichen, eine breite Palette von Schleifparametern wie Oberflächenrauhigkeit, Schleiftiefe und Endqualität einzustellen. Die Maschine verfügt auch über ein automatisiertes Wafer-Reinigungswerkzeug, das mehrere Waschmöglichkeiten und ein Variportioner-basiertes Läpp- und Ätzgut bietet. Dieses Modell ermöglicht eine effiziente und kostengünstige Produktion mit gleichbleibender Qualität und Wiederholbarkeit. AMAT Mirra Ontrak ist auch mit einer Reihe von erweiterten Funktionen und Zubehör ausgestattet, wie einem digitalen Druckregler und einer Touchgraph-Benutzeroberfläche. Der Druckregler sorgt dafür, dass die Schleifkraft in einem Bereich gehalten wird, der präzise, sichere und effektive Schleifvorgänge ermöglicht. Die Touchgraph-Benutzeroberfläche bietet einen leicht verständlichen Überblick über den Schleif- und Polierprozess und bietet Anwendern einen umfassenden Überblick über den gesamten Prozess von Anfang bis Ende. Die Geräte werden auch durch ein globales Service- und Supportnetzwerk von AMAT unterstützt, das die notwendige Unterstützung bietet, damit die Produktionsprozesse reibungslos und effizient laufen. Darüber hinaus bietet das System eine breite Palette von Anpassungsoptionen, so dass Benutzer das Gerät auf ihre spezifischen Bedürfnisse und Anforderungen anpassen können. Insgesamt bietet APPLIED MATERIALS Mirra Ontrak effiziente, kostengünstige Schleif- und Polierservices für die Herstellung von Halbleiterscheiben. Mit seinem automatisierten Betrieb und seinen fortschrittlichen Funktionen wurde diese Maschine entwickelt, um Benutzern wiederholbare Ergebnisse und gleichbleibende Qualität zu bieten.
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