Gebraucht APPLIED MATERIALS Mirra Mesa #73051 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 73051
metal layer CMP system, copper, 8"
Software license, re-installation and startup to Tier II
Mirra Mesa CMP
Original W system - running Cu
Mesa cleaner
One monitor, trackball
50 ft cables
InSitu removal rate monitor (ISRM) detectors on all 3 platens
50ft ISRM cables
Standard cassette tank
Titan 2 heads for tungsten
AEP retaining ring
Pad conditioner:
DDF3 - new design with clean up spray nozzle, N2 purge
Extended rinse slurry dispense arm
Platten Pad: Process kit with IC1000 pad
Standard Platten no temperature control
Wafer loss sensor with light pipe
3 slurries (AB1, AB2, AC3) 1 DIW per platten, std flow, without flow monitor
One drain line to facilities - all drains manifold into one
NPT drain fittings
Electronic control box for slurry monitoring only
Light tower: 3-color vertical, Red/Green/Yellow with flash and buzzer
No key switch, compatible with all light towers and no light tower
Lower exhaust for standalone system
Remote start/stop button on polisher
Guard ring on all EMO (CE compliant)
Single spray gun
No Window in side panel
Tie-downs on polisher & controller feet
No UPS
Smoke detector in controller
No pad puller, for one line to facilities option
Nanometrics
Universal disk holder
ABT Universal disks
Cass present sensor
Wafer mapping
Kit Cascading Ergo fabs w/o filter
2006 vintage.
ANGEWANDTE MATERIALIEN Mirra Mesa ist die ideale Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung für diejenigen, die enge Toleranzen mit ausgezeichneten Oberflächenoberflächen einhalten müssen. Das System ist darauf ausgelegt, Wafer effizient zu schleifen und zu schlagen, ohne den Produktionsprozess zu beeinträchtigen. Es wird durch mehr als 10kW servomotorische Spindelleistung angetrieben, kombiniert mit fortschrittlicher Bewegungssteuerungselektronik und einem leistungsstarken Schleifrad sowie integrierten Kalibrier- und Prozessüberwachungsfunktionen. Die Einheit ergibt eine überlegene Oberflächengüte, indem sie auf ihren verschiedenen Stufen einen Grobschliff verwendet, ist aber in der Lage, bei Bedarf feinere Oberflächengüten zu erzeugen. Mit einem hybriden Design verwendet die Schleifscheibe eine Kombination aus Hochleistungs-Schleifmaterial, Diamantkörner und Hartmetallkörner, um sicherzustellen, dass der Wafer während des gesamten Prozesses sehr glatt bleibt. Das Design des Rades umfasst eine breite Palette von Spindeldrehzahlen und Schrittvorschubgeschwindigkeiten, um bei Bedarf viel schnellere Schleif- und Endgeschwindigkeiten bereitzustellen. Das Rad ist auch mit einem einzigartigen Oszillationsmerkmal für verbesserte Genauigkeit und Gleichmäßigkeit ausgestattet. Um ein Höchstmaß an Prozesssteuerung zu gewährleisten, verfügt Mirra Mesa über eine Digital-Analog-Hybrid-Steuerung zur präzisen Steuerung des Schleif- und Läppprozesses. Auf diese Weise kann der Bediener die Spindeldrehzahl oder die oszillierende Geschwindigkeit mit einem Knopfdruck einstellen. Darüber hinaus überwacht das Werkzeug Prozesstemperaturen, Druck, Kraft, Vibrationen und andere Dynamiken, um bei Bedarf Korrekturen vorzunehmen. Darüber hinaus bietet die Anlage eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen wie eine automatisierte Notabschaltung und eine Notfallverzögerungstaste, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten. Das Modell verfügt auch über eine Zero-Force-Compliance-Ausrüstung, um die Schleifscheibe zu schützen und zu verhindern, dass sie bricht. Schließlich ist das System mit einer breiten Palette von Zubehör ausgestattet, darunter verschiedene Diamant- und Carborundum-Grits, Waferhalter und Spannfutter sowie eine breite Palette von Prozessüberwachungs- und Steuerungssoftware. All dies führt zu einer effizienten, kontrollierbaren Schleif-, Läpp- und Poliereinheit, die Wafer mit engen Toleranzen und einer überlegenen Oberflächengüte präzise und gleichmäßig veredeln kann.
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