Gebraucht APPLIED MATERIALS Mirra Mesa #73051 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 73051
metal layer CMP system, copper, 8" Software license, re-installation and startup to Tier II Mirra Mesa CMP Original W system - running Cu Mesa cleaner One monitor, trackball 50 ft cables InSitu removal rate monitor (ISRM) detectors on all 3 platens 50ft ISRM cables Standard cassette tank Titan 2 heads for tungsten AEP retaining ring Pad conditioner: DDF3 - new design with clean up spray nozzle, N2 purge Extended rinse slurry dispense arm Platten Pad: Process kit with IC1000 pad Standard Platten no temperature control Wafer loss sensor with light pipe 3 slurries (AB1, AB2, AC3) 1 DIW per platten, std flow, without flow monitor One drain line to facilities - all drains manifold into one NPT drain fittings Electronic control box for slurry monitoring only Light tower: 3-color vertical, Red/Green/Yellow with flash and buzzer No key switch, compatible with all light towers and no light tower Lower exhaust for standalone system Remote start/stop button on polisher Guard ring on all EMO (CE compliant) Single spray gun No Window in side panel Tie-downs on polisher & controller feet No UPS Smoke detector in controller No pad puller, for one line to facilities option Nanometrics Universal disk holder ABT Universal disks Cass present sensor Wafer mapping Kit Cascading Ergo fabs w/o filter 2006 vintage.
ANGEWANDTE MATERIALIEN Mirra Mesa ist die ideale Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung für diejenigen, die enge Toleranzen mit ausgezeichneten Oberflächenoberflächen einhalten müssen. Das System ist darauf ausgelegt, Wafer effizient zu schleifen und zu schlagen, ohne den Produktionsprozess zu beeinträchtigen. Es wird durch mehr als 10kW servomotorische Spindelleistung angetrieben, kombiniert mit fortschrittlicher Bewegungssteuerungselektronik und einem leistungsstarken Schleifrad sowie integrierten Kalibrier- und Prozessüberwachungsfunktionen. Die Einheit ergibt eine überlegene Oberflächengüte, indem sie auf ihren verschiedenen Stufen einen Grobschliff verwendet, ist aber in der Lage, bei Bedarf feinere Oberflächengüten zu erzeugen. Mit einem hybriden Design verwendet die Schleifscheibe eine Kombination aus Hochleistungs-Schleifmaterial, Diamantkörner und Hartmetallkörner, um sicherzustellen, dass der Wafer während des gesamten Prozesses sehr glatt bleibt. Das Design des Rades umfasst eine breite Palette von Spindeldrehzahlen und Schrittvorschubgeschwindigkeiten, um bei Bedarf viel schnellere Schleif- und Endgeschwindigkeiten bereitzustellen. Das Rad ist auch mit einem einzigartigen Oszillationsmerkmal für verbesserte Genauigkeit und Gleichmäßigkeit ausgestattet. Um ein Höchstmaß an Prozesssteuerung zu gewährleisten, verfügt Mirra Mesa über eine Digital-Analog-Hybrid-Steuerung zur präzisen Steuerung des Schleif- und Läppprozesses. Auf diese Weise kann der Bediener die Spindeldrehzahl oder die oszillierende Geschwindigkeit mit einem Knopfdruck einstellen. Darüber hinaus überwacht das Werkzeug Prozesstemperaturen, Druck, Kraft, Vibrationen und andere Dynamiken, um bei Bedarf Korrekturen vorzunehmen. Darüber hinaus bietet die Anlage eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen wie eine automatisierte Notabschaltung und eine Notfallverzögerungstaste, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten. Das Modell verfügt auch über eine Zero-Force-Compliance-Ausrüstung, um die Schleifscheibe zu schützen und zu verhindern, dass sie bricht. Schließlich ist das System mit einer breiten Palette von Zubehör ausgestattet, darunter verschiedene Diamant- und Carborundum-Grits, Waferhalter und Spannfutter sowie eine breite Palette von Prozessüberwachungs- und Steuerungssoftware. All dies führt zu einer effizienten, kontrollierbaren Schleif-, Läpp- und Poliereinheit, die Wafer mit engen Toleranzen und einer überlegenen Oberflächengüte präzise und gleichmäßig veredeln kann.
Es liegen noch keine Bewertungen vor