Gebraucht EBARA EPO-222 #9203985 zu verkaufen

ID: 9203985
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
CMP Systems, 8" 1997 vintage.
EBARA EPO-222 ist eine Zweiraum-Wafer-Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung, die von der EBARA Corporation für das präzise Polieren von Wafern in der Halbleiterindustrie entwickelt und hergestellt wurde. Die Maschine verwendet eine Vielzahl von Schleif-, Läpp- und Polieroperationen, um eine überlegene Oberfläche auf beiden Seiten des Wafers zu produzieren, wodurch sie für den Einsatz in einer Vielzahl von Prozessen geeignet ist, einschließlich der Herstellung fortschrittlicher Komponenten wie LEDs, Laser und MEMs. EBARA EPO222 System besteht aus einer doppelten Arbeitskammer, die es dem Bediener ermöglicht, zwei verschiedene und gleichzeitige Prozesse innerhalb derselben Einheit durchzuführen. Die Maschine ist mit einer Hochleistungsspindel, Schleifscheiben und Rundblechen ausgestattet, um eine maximale Genauigkeit bei der Herstellung von flachen und runden Teilen zu gewährleisten. Der Schleif- und Polierprozess verwendet fortschrittliche Technologie, einschließlich einer genauen Druckkontrolle, um ein hohes Maß an Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten, wodurch der Bediener Teile mit präziser Oberflächengüte und Wiederholbarkeit herstellen kann. EPO 222 Maschine kommt auch mit einem automatisierten Vision-Tool, in der Lage, die Teile mit einer Genauigkeit von 0,001 mm zu messen. Auf diese Weise kann das Asset Schalt-, Rundungs- und Radiusfehler genau erkennen und korrigieren, was eine schnellere Produktion hochwertiger Teile ermöglicht. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein Sicherheitsüberwachungsmodell, das es dem Bediener ermöglicht, den Status des Prozesses zu überwachen und die Sicherheit der Prozessumgebung zu gewährleisten. Die Ausrüstung bietet einstellbare Geschwindigkeiten von 0 bis 999 U/min und einstellbare Schleifscheibendrücke zwischen 0 und 25 kg, so dass der Bediener die für jeden Prozess erforderlichen Bedingungen genau aufnehmen kann. Außerdem verfügt die Maschine über ein eingebautes Selbstkontrollsystem, das einen sicheren und zuverlässigen Betrieb gewährleistet, und ihre automatische Programmfunktion ermöglicht es dem Bediener, den Produktionsprozess einfach zu programmieren. Insgesamt bietet EPO222 dem Bediener Präzision, Genauigkeit und Flexibilität bei der Herstellung hochwertiger Wafer.
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