Gebraucht EBARA EPO-222T #9238850 zu verkaufen
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ID: 9238850
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Wafer reclaim system, 12"
Transfer module
Clean module
Polish module
Power module
2004 vintage.
EBARA EPO-222T ist eine leistungsstarke Scheibenschleif-, Läpp- und Polierausrüstung, die mit jeder Anwendung hervorragende Ergebnisse liefert. Diese Maschine ist für den Einsatz mit Prozessen konzipiert, die Präzisionsschleifen, Läppen und Polieren von Siliziumwafern beinhalten. Das System kann auf eine Vielzahl von Substraten wie Si, SiC und GaN aufgebracht werden. EBARA EPO222T verfügt über ein mehrstufiges Design, das es ermöglicht, Wafer verschiedener Durchmesser, Dicken und Materialien mit einer effizienten, wiederholbaren Oberfläche zu verarbeiten. Es besteht aus einem Gehäusehauptrahmen mit einer basismontierten vierachsigen CNC-Steuerung, Schleif-/Läppkopf und verschiedenen peripheren Subsystemen. Der Schleif-/Läppkopf besteht aus einer Schwerlastspindel mit einstellbarer Geschwindigkeit und Vorschub, so dass der Benutzer den Schleif-/Läppprozess je nach Anwendung feinjustieren kann. Dieses Gerät verfügt über eine geräuscharme Betriebsumgebung, die einen Lärmschutz von bis zu 95 dB (A) ermöglicht. Zur Vibrationsreduzierung wird ein zusätzlicher Außenbordspindelantrieb verwendet. Es verfügt auch über eine hochintensive Beleuchtungsmaschine, die es Anwendern ermöglicht, ihre Prozesse genau und detailliert zu beobachten. Darüber hinaus ist eine Reihe von Sicherheitsabdeckungen vorgesehen, um eine maximale Betriebssicherheit zu gewährleisten. EPO 222T ist mit einem Zentrifugalpolierrad ausgestattet, das in der Lage ist, eine polierte Oberfläche auf den Wafern in einem Durchgang zu erreichen. Sein vollautomatischer Poliermodus bietet fortschrittliche Funktionen wie einstellbare Drehzahl, einstellbare Drehzahl und einstellbaren Polierdruck, um den Anwendern die höchste Polierqualität zu ermöglichen. Das Werkzeug ist einfach zu bedienen, schnell und effizient. Es kann manuell bedient oder mit einer Vielzahl von Parametern programmiert werden, um den individuellen Anwendungsanforderungen jedes Benutzers gerecht zu werden. Schließlich ist die gesamte Anlage in einer kleinen geschlossenen Dämpfungsabdeckung mit einer optionalen Vakuumstaubsammeleinheit untergebracht, um die Staubverteilung zu minimieren.
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