Gebraucht EBARA Frex 300 #9384469 zu verkaufen
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EBARA Frex 300 ist eine effiziente, aber kostengünstige Schleif-, Läpp- und Polieranlage für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen. EBARA FREX-300 kann für alle Stufen des Schleifens, Läppens und Polierens von vollen Wafern und abisolierten Scheiben konfiguriert werden. F-REX300 verfügt über ein schnelles Werkzeugwechselsystem und die Möglichkeit, mehrere Wafergrößen aufzunehmen. Die Schleifstufe von F-REX 300 verwendet feine, präzise Diamantschleifbänder, die Wafer mit präziser Oberflächenebene schleifen können. Die Schleifbänder bieten einen hervorragenden Oberflächenvorbereitungsschritt für weitere Läpp- und Polieroperationen. Die Bandschleifstation verfügt zudem über eine integrierte Kühlmittelfördereinheit, um optimale Schleifergebnisse zu gewährleisten. Als nächstes verwendet die Läppstufe von EBARA F-REX300 eine einzigartige Hochleistungs-Gusseisen-Rundenplatte sowie abrasive Partikel, die schnelle Läppzeiten und außergewöhnliche Schritthöhen bieten. Der Läppvorgang ist mit einer einstellbaren Druckklaue ausgestattet, die eine maximale Oberflächenplanheit für den Vorschub zum Poliervorgang gewährleistet. Die letzte Stufe von EBARA F-REX 300 ist der Polierprozess, bei dem eine Vielzahl von Polierslurries verwendet werden können, um außergewöhnlich hohe Oberflächenebenheit mit weniger als 1 nm in der Tiefe von Defekten zu erhalten. Das Polierverfahren ist eine Industriestandard-Technik, bei der ein einstellbarer, drehbarer Druckkopf verwendet wird, um den Schlamm über den Wafer zu manipulieren. Frex 300 bringt zahlreiche Vorteile für die Halbleiterherstellungsindustrie. Seine einzigartigen statischen und dynamischen Plattendesigns bieten einen effizienten und kostengünstigen Schleif-, Läpp- und Polierprozess in einer einzigen Maschine, was Prozesszeit und -kosten reduziert und gleichzeitig qualitativ hochwertige Ergebnisse erzielt. Die Fähigkeit, mehrere Wafergrößen aufzunehmen, erhöht seine Effizienz, und flexible Konfigurationen machen es einfach, in verschiedenen Stufen des Halbleiterherstellungsablaufs zu verwenden.
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