Gebraucht G&N MPS 2-134 #9227858 zu verkaufen

G&N MPS 2-134 Wafer Schleif-, Läpp- und Polieranlagen (MPS 2-134) ist ein innovatives Produkt zum Schleifen und Polieren von integrierten Schaltkreisen (IC) und Substratscheiben. Dieses System besteht aus einer Kombination verschiedener peripherer Komponenten, die eine hohe Prozessgenauigkeit, Wiederholbarkeit und Durchsatzleistung ermöglichen. Das Gerät ist für die ultrapräzise Herstellung von Wafern für höchste Anforderungen an die Halbleiterherstellung ausgelegt. G&N MPS 2-134 bietet ein einzigartiges, robustes und zuverlässiges Verfahren zum Schleifen und Polieren von Wafern. Die Maschine ist mit einer zweistufigen Schleif-/Poliereinheit ausgestattet, bestehend aus einer Schleifscheibe und einem Polierkissen. Die Schleifscheibe besteht aus Diamant- oder cBN-Schleifmitteln. Es ist für Hochgeschwindigkeitsschleifen von dünnen sowie dicken Wafern mit großer Genauigkeit und Wiederholbarkeit konzipiert. Die zweite Stufe ist ein chemisch-mechanisches (CMP) Pufferverfahren zum Polieren der Oberfläche des Wafers. Der Polierschritt wird mit einer dem Material und den Eigenschaften des Wafers entsprechenden Polierslurry ausgeführt. MPS 2-134 ermöglicht eine präzise Kontrolle der Schleif- und Polierprozesse. Das Gerät verfügt über automatische Spalteinstellmöglichkeiten und ist in der Lage, die Spaltbreite zwischen Schleifscheibe und Wafer zu messen, um eine optimale Prozessgenauigkeit zu gewährleisten. Diese Funktion hilft auch, die optimalen Prozessparameter für die jeweilige Anwendung einzustellen. Das Gerät umfasst auch eine erweiterte Prozesssteuerung mit der DCS-Architektur (Distributed Control Tool), die eine Fernüberwachung und Steuerung des Schleif- und Polierprozesses ermöglicht. G&N MPS 2-134 bietet zudem eine verbesserte Sicherheitsfunktion für den Bediener, da die Anlage mit einem automatisierten Schutzmodell und einem Not-Aus-Kreis ausgestattet ist. Diese Funktion schützt den Benutzer vor möglichen Unfällen während der Nutzung der Ausrüstung. Um die Effizienz der Schleif- und Polierprozesse zu maximieren, verwendet MPS 2-134 einen einzigartigen Pufferslurry und Pufferkissenhalter. Der Halter, der mit einer motorisierten Ausrüstung ausgestattet ist, ermöglicht ein schnelles und einfaches Be- und Entladen der Pads und Güllebehälter. Durch diese Funktion werden mögliche Zeitverluste bei den Umstellungen von Gülle und Polster eliminiert, wodurch die Produktivität, der Durchsatz und die Wiederholbarkeit der Prozesse erhöht werden. Insgesamt ist G&N MPS 2-134 ein innovatives System, das den anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterherstellung gerecht wird. Das Gerät bietet eine einzigartig robuste und zuverlässige Kontrolle über Wafer-Schleif-, Läpp- und Polierprozesse und gewährleistet Wafer höchster Qualität für die fortschrittlichsten Anwendungen.