Gebraucht HAMAI 9B-5L/P #9073245 zu verkaufen

HAMAI 9B-5L/P
ID: 9073245
Double-side system.
HAMAI 9B-5L/P ist eine vielseitige Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung, die weltweit von Halbleiterherstellern eingesetzt wird. Dieses System ermöglicht eine qualitativ hochwertige Verarbeitung verschiedener Arten von Materialien, vom ultrafeinen Polieren bis hin zu großen Läppoperationen. HAMAI 9B-5L/P verfügt über eine Bearbeitungsfläche von 500 Millimetern, die das Schleifen, Läppen und Polieren von Halbleiterscheiben mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll ermöglicht. Es ist mit einem Waferbett und einer Doppelkopfantriebseinheit ausgestattet, die das gleichzeitige Schleifen und Läppen von Wafern ermöglicht. Die Maschine ist ferner mit einem drehzahlvariablen Mechanismus und einem Kontaktdruckregler ausgestattet, der den gewünschten Anpressdruck zwischen dem Wafer und der Schleif- oder Läppscheibe gewährleistet. Das Tool wird mit einem erweiterten Feedback-Control-Asset automatisiert, das sicherstellt, dass die Schleif-, Läpp- und Polierschritte genau und konsistent durchgeführt werden. Das Regelungsmodell überwacht auch die Geschwindigkeit und den Druck der Schleif-, Läpp- und Polierscheiben sowie die Temperatur der Ausrüstung. Darüber hinaus werden eine Vielzahl von Sensoren und Überwachungseinrichtungen verwendet, um sicherzustellen, dass alle Schleif-, Läpp- und Poliervorgänge korrekt ausgeführt werden. HAMAI 9B-5L/P nutzt ein Güllebad und ist in der Lage, Partikel effizient von der Waferoberfläche zu entfernen. Das Schlammbad ermöglicht das Schleifen, Läppen und Polieren von Wafern mit einer sehr hohen Geschwindigkeit und Genauigkeit. Das System ist mit einer Vakuumeinheit ausgestattet, die den Schlamm nach der Verarbeitung aus dem Wafer entfernt. HAMAI 9B-5L/P ist eine hocheffiziente Scheibenschleif-, Läpp- und Poliermaschine, die für die Verarbeitung verschiedener Wafertypen von höchster Qualität entwickelt wurde. Dieses Werkzeug kann verwendet werden, um hochpräzise Teile effizient zu produzieren und die bestmöglichen Ergebnisse zu erzielen. Es ist eine vielseitige Lösung, die den Anforderungen vieler verschiedener Halbleiterprozesse gerecht wird.
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