Gebraucht IPEC 472 #293819396 zu verkaufen

IPEC 472
ID: 293819396
Chemical Mechanical Polishing (CMP) system.
IPEC 472 Wafer Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung ist ein spezielles System zum Schleifen, Läppen und Polieren von Siliziumwafern bis 8,0 "Durchmesser. Das Gerät ist so konzipiert, dass es eine komplette Lösung für die Waferbearbeitungsanforderungen moderner Halbleiterfertigungslinien bietet. Es besteht aus folgenden Komponenten: einem Schleif-/Läppkopf, einem Läpptisch, einem Polierkopf und einer Waferbewegungsmaschine. Der Schleif-/Läppkopf ist eine zweiachsige, hochpräzise drehzahlveränderliche Spindel mit einer maximalen Drehzahl von 4.000 U/min. Es wird verwendet, um den Wafer auf das gewünschte Profil zu schleifen und zu schlagen. Der Läpptisch ist ein hochpräziser, geschlossener, servogesteuerter Tisch, mit dem der Benutzer den Wafer in jede Richtung bewegen kann. Es verfügt auch über ein variables Auslösewerkzeug für gleichmäßigen Läppdruck. Der Polierkopf ist eine zweiachsige, hochpräzise drehzahlveränderliche Spindel mit einer maximalen Drehzahl von 4.000 U/min. Dies wird verwendet, um eine perfekt ebene Oberfläche auf dem Wafer bereitzustellen. Das Wafer-Bewegungselement ist ein geschlossenes, vakuumdichtes Modell, das eine präzise Steuerung der Position des Wafers ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, dass die Schleif-, Läpp- und Polierprozesse mit großer Genauigkeit und Wiederholbarkeit gehandhabt werden. 472 bietet eine Reihe von Funktionen, um seine Leistung und Flexibilität zu verbessern. Dazu gehören regelmäßige Rückmeldungen auf Versandebene, Echtzeit-Prozessüberwachung und lokalisierte Materialtransportsysteme. Kurz gesagt, IPEC 472 Wafer Schleif-, Läpp- und Polieranlagen ist eine ideale Wahl für die modernen Waferbearbeitungsanforderungen von Halbleiterfertigungslinien. Mit seinen hochpräzisen Komponenten, der Servosteuerung und der Benutzerfreundlichkeit ist es die perfekte Lösung für zeitsparende, präzise und wiederholbare Prozesse.
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