Gebraucht LANDIS 3SE #293827528 zu verkaufen

ID: 293827528
Weinlese: 2007
Grinding machine Engine speed: 1200 RPM Job head turnover: 333 RPM Maximum stone age: 8500 RPM Worn stone diameter: 558 mm Shaft pulley diameter: 165 mm Motor pulley diameter: 178.6 mm Stone diameter: 762 mm Power supply: 400 V, 50 Hz 2007 vintage.
LANDIS 3SE ist ein modernes Wafer-Schleif-, Läpp- und Poliergerät, das entwickelt wurde, um fortschrittliche Halbleiterwaferbearbeitungsfähigkeiten für die Mikroelektronikindustrie bereitzustellen. Dieses System ist mit modernsten Technologien und Funktionen ausgestattet, die Präzision, Effizienz und Zuverlässigkeit bei der Vorbereitung von Halbleiterscheiben für nachgeschaltete Fertigungsprozesse gewährleisten. Zu 3SE Schlüsselkomponenten gehören ein robustes Schleifmodul, ein vielseitiges Läppmodul und ein hochpräzises Poliermodul. Jedes Modul ist so konzipiert, dass es spezifische Aufgaben im Arbeitsablauf der Waferbearbeitung ausführt und einen nahtlosen Übergang zwischen Schleif-, Läpp- und Polierphasen ermöglicht. Das Schleifmodul der LANDIS 3SE Maschine ist mit fortschrittlichen Schleifscheiben und Hochgeschwindigkeitsspindeleinheiten ausgestattet, die einen schnellen Materialabtrag und eine präzise Waferdünnung ermöglichen. Dieses Modul ist in der Lage, ultraflache Waferoberflächen mit minimalen Untergrundschäden zu erreichen, wodurch eine hohe Qualität und Gleichmäßigkeit in den bearbeiteten Wafern gewährleistet ist. Das Läppmodul des Werkzeugs wurde entwickelt, um hochpräzise Materialabtragungs- und Oberflächenveredelungsfähigkeiten für Halbleiterscheiben bereitzustellen. Unter Verwendung einer Kombination aus Schleifschlamm und rotierenden Läppplatten kann dieses Modul eine außergewöhnliche Ebenheit und Oberflächenglätte in den verarbeiteten Wafern erreichen, wodurch es ideal für Anwendungen ist, die eine strenge Maßkontrolle und Oberflächenqualität erfordern. Das Poliermodul von 3SE Asset wurde entwickelt, um eine hervorragende Oberflächenveredelung und Polierleistung für Halbleiterwafer zu bieten. Ausgestattet mit fortschrittlichen Polierkissen, Güllefördersystemen und Drucksteuerungsmechanismen kann dieses Modul spiegelartige Oberflächenoberflächen mit Sub-Nanometer-Rauhigkeitswerten erzielen, die den Anforderungen fortschrittlicher Halbleiterbauelementherstellungsprozesse entsprechen. Neben den Kernverarbeitungsmodulen verfügt LANDIS 3SE Modell über eine ausgeklügelte Steuerungsausrüstung, die eine präzise Prozessparameteroptimierung, Echtzeitüberwachung und Datenerfassung zur Qualitätssicherung und Prozessnachverfolgbarkeit ermöglicht. Das System ist auch mit automatischen Wafer-Handhabungsmechanismen, Roboter-Be- und Entladesystemen und Wafer-Mapping-Funktionen ausgestattet, die eine Hochdurchsatzverarbeitung und betriebliche Effizienz ermöglichen. 3SE Einheit ist mit einer modularen Architektur konzipiert, die eine einfache Integration zusätzlicher Prozessmodule wie Reinigungsstationen, Messtechnik und Inspektionswerkzeuge ermöglicht, um eine umfassende Waferbearbeitungslösung zu schaffen, die auf spezifische Anwendungsanforderungen zugeschnitten ist. Die Maschine ist auch mit benutzerfreundlichen Schnittstellen, intuitiver Software-Steuerung und Fernüberwachungsfunktionen gebaut, die eine einfache Bedienung und Wartung für Halbleiterherstellungseinrichtungen gewährleisten. Insgesamt stellt LANDIS 3SE Wafer-Schleif-, Läpp- und Polierwerkzeug eine hochmoderne Lösung für die Halbleiterwaferbearbeitung dar, die fortschrittliche Fähigkeiten, hohe Präzision und Zuverlässigkeit für die Herstellung hochwertiger Wafer bietet, die in einer Vielzahl von Mikroelektronik-Anwendungen verwendet werden.
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