Gebraucht LANDIS 3SE #293827529 zu verkaufen
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ID: 293827529
Weinlese: 2002
Grinding machine
Engine speed: 1200 RPM
Job head turnover: 333 RPM
Maximum stone age: 8500 RPM
Worn stone diameter: 558 mm
Shaft pulley diameter: 165 mm
Motor pulley diameter: 178.6 mm
Stone diameter: 762 mm
Diameter: 355 mm
Power supply: 400 V, 50 Hz
2002 vintage.
LANDIS 3SE ist eine hochmoderne Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung für Halbleiterherstellungsanwendungen. Dieses fortschrittliche System umfasst innovative Funktionen und Technologien, um eine hochpräzise und einheitliche Waferbearbeitung zu ermöglichen, die für die Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente unerlässlich ist. Die Hauptfunktion 3SE Einheit besteht darin, Halbleiterscheiben zu schleifen, zu schleifen, zu schleifen und zu polieren, um eine optimale Ebenheit, Gleichmäßigkeit der Dicke und Oberflächenqualität zu erreichen. Dieses Verfahren ist bei der Halbleiterherstellung kritisch, da es die Leistungsfähigkeit und Zuverlässigkeit der auf den Wafern hergestellten integrierten Schaltungen direkt beeinflusst. Eines der Hauptmerkmale der LANDIS 3SE Maschine ist ihre hochpräzise Schleiffähigkeit. Das Werkzeug verwendet fortschrittliche Schleifscheiben und Schleifmechanismen, um Material von der Waferoberfläche mit außergewöhnlicher Genauigkeit und Kontrolle zu entfernen. Dieser präzise Schleifvorgang ist wesentlich, um die gewünschte Scheibendicke und Ebenheit für die Halbleiterherstellung zu erreichen. Neben dem Schleifen bietet 3SE Asset auch Läpp- und Polierfunktionen. Das Läppen beinhaltet die Verwendung von Schleifschlämmen, um die Waferoberfläche weiter zu glätten und ihre Ebenheit zu verbessern, während das Polieren Polierkissen und Chemikalien verwendet, um eine spiegelartige Oberfläche zu erzielen. Durch die Kombination von Schleifen, Läppen und Polieren in einem einzigen Modell bietet LANDIS 3SE eine umfassende Lösung, um die gewünschte Oberflächenqualität und -eigenschaften auf Halbleiterscheiben zu erreichen. Die Ausrüstung ist mit einer Reihe fortschrittlicher Sensoren und Überwachungswerkzeuge ausgestattet, um eine Echtzeit-Prozesskontrolle und -Rückmeldung zu gewährleisten. Diese Sensoren ermöglichen es dem Bediener, wichtige Parameter wie Waferdicke, Ebenheit und Oberflächenrauhigkeit beim Schleifen, Läppen und Polieren zu überwachen. Durch kontinuierliche Überwachung dieser Parameter kann das System automatische Anpassungen vornehmen, um die Bearbeitungsbedingungen zu optimieren und eine gleichbleibende Waferqualität zu gewährleisten. Ein weiterer wesentlicher Vorteil 3SE Gerätes ist seine Vielseitigkeit und Flexibilität. Die Maschine kann eine breite Palette von Wafergrößen, Materialien und Spezifikationen aufnehmen, so dass sie für verschiedene Halbleiterherstellungsanwendungen geeignet ist. Ob Silizium, Galliumarsenid oder andere Halbleitermaterialien, das Werkzeug kann an die spezifischen Anforderungen der Anwendung angepasst werden. Darüber hinaus wird die Anlage unter Berücksichtigung von Produktivität und Durchsatz konzipiert. LANDIS 3SE zeigt in einer Prozession gehende Hochleistungsfähigkeiten, effizienten Oblatenschleifen, das Winden und Polieren von Operationen berücksichtigend. Dieser hohe Durchsatz ist wichtig für Halbleiterhersteller, die die Produktionseffizienz maximieren und Zykluszeiten reduzieren möchten. Insgesamt stellt 3SE Wafer-Schleif-, Läpp- und Poliermodell eine hochmoderne Lösung für die Halbleiterherstellung dar. Mit seinen fortschrittlichen Fähigkeiten, der Präzisionsbearbeitung und automatisierten Steuerungen ermöglicht die Ausrüstung Halbleiterherstellern, die für die Herstellung fortschrittlicher integrierter Schaltungen erforderlichen hochwertigen Wafer zu erreichen. Durch Investitionen in LANDIS 3SE System können Halbleiterhersteller ihre Produktionskapazitäten verbessern, die Waferqualität verbessern und letztlich einen Wettbewerbsvorteil in der Halbleiterindustrie gewinnen.
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