Gebraucht LAPMASTER 36E #293778393 zu verkaufen
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ID: 293778393
Weinlese: 1984
Lapping system
(3) Ring style open face machine
Lapping plate speed: 70 RPM
Table size: 74” x 74”
Equipped with:
(3) Cast iron conditioning rings
(3) Adjustable ring roller guides (Yokes)
5 HP Main drive motor and electrical control
Slurry pump
Tank
Overhead distributor
Nordic ES-3 soft start control for lap plate
Automatic cycle timer control
Heavy-duty outside parts handling table
Push-button control station
Power supply: 60 Hz, 3 Phase, 230 V
1984 vintage.
LAPMASTER 36E ist eine hochentwickelte und präzisionstechnische Ausrüstung, die zum Schleifen, Läppen und Polieren von verschiedenen Materialien entwickelt wurde und sich hauptsächlich auf Halbleitersubstrate wie Silizium, Galliumarsenid und Germanium konzentriert. Dieses System ist speziell auf die hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie zugeschnitten, wo eine ultrapräzise und gleichmäßige Oberflächengüte für die Leistung und Zuverlässigkeit elektronischer Geräte entscheidend ist. Kern 36E Einheit ist ihre innovative und robuste Konstruktion mit einer Doppelantriebsmaschine, die eine unabhängige Steuerung des Arbeitsträgers und der Konditionierungsringe ermöglicht. Dieses einzigartige Setup bietet eine verbesserte Flexibilität und Vielseitigkeit bei der Verarbeitung verschiedener Materialien und erreicht eine präzise Kontrolle über Parameter wie Druck, Geschwindigkeit und Schwingungsfrequenzen während der Schleif-, Läpp- und Polierstufen. Zu den Hauptkomponenten des LAPMASTER 36E Werkzeugs gehören ein hochpräziser Arbeitsträger, eine feste Schleifplatte, eine Konditionierungsringbaugruppe und eine Gülleförderanlage. Der Arbeitsträger ist so ausgelegt, dass er das Substrat während der Bearbeitungsschritte sicher hält und einen gleichmäßigen Kontakt zwischen dem Wafer und der abrasiven Oberfläche gewährleistet. Die feste Schleifplatte ist mit abrasiven Partikeln ausgestattet, die strategisch verteilt sind, um den Materialabtragungsprozess mit hoher Effizienz und Konsistenz zu erleichtern. Die Konditionierungsringanordnung besteht aus mehreren Konditionierungsringen, die verwendet werden, um die Ebenheit und Parallelität der Substratoberfläche während der Läpp- und Polierstufen zu erhalten. Diese Ringe können unabhängig voneinander eingestellt werden, um unterschiedlichen Materialeigenschaften und Verarbeitungsanforderungen gerecht zu werden und sorgen für optimale Ergebnisse in Bezug auf Oberflächengüte und Ebenheitsgleichförmigkeit. Das Schlammfördermodell spielt eine entscheidende Rolle bei der Zuführung der Schleifaufschlämmung zum Bearbeitungsbereich, wodurch eine ständige Schmierung und Kühlung des Substrats während des Schleif- und Poliervorgangs gewährleistet ist. Das Gerät ist mit Präzisionspumpen, Filtern und Strömungssteuermechanismen ausgestattet, um die gewünschte Schlammkonzentration und Durchflussrate zu halten, wodurch die Materialabtragsrate optimiert und Defekte auf der Substratoberfläche minimiert werden. Neben den fortschrittlichen Hardwarekomponenten ist 36E System auch mit einer ausgeklügelten Steuereinheit ausgestattet, die eine Echtzeitüberwachung und Anpassung wichtiger Prozessparameter ermöglicht. Bediener können Prozessrezepte einfach einrichten, Prozessvariablen überwachen und Daten analysieren, um konsistente und reproduzierbare Ergebnisse über mehrere Chargen von Substraten zu gewährleisten. Insgesamt stellt LAPMASTER 36E Maschine eine hochmoderne Lösung für Wafer-Schleif-, Läpp- und Polieranwendungen in der Halbleiterindustrie dar. Mit seiner präzisen Steuerung, seinen erweiterten Fähigkeiten und seiner benutzerfreundlichen Schnittstelle ermöglicht dieses Tool Halbleiterherstellern hochwertige Oberflächenveredelungen, eine überlegene Ebenheitskontrolle und eine höhere Produktivität in ihren Waferbearbeitungsvorgängen.
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