Gebraucht NTS Nano Surface SL910-AFCL #9132557 zu verkaufen

NTS Nano Surface SL910-AFCL ist eine Wafer-Schleif-, Läpp- und Polieranlage, die für die anspruchsvollen Anforderungen der Silizium-Waferproduktion entwickelt wurde. Dieses System ist in der Lage, hochwertige Silizium-Wafer mit Nanometer-Oberflächenoberflächen zu produzieren und bietet dem Hersteller ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug für die Herstellung ihrer empfindlichsten Geräte. Das Gerät verwendet eine Läppplatte mit einem motorisierten Kopf und eine Vielzahl von Verbundschleif- und Läppscheiben, um eine einwandfreie Oberfläche auf beiden Seiten der Wafer zu erzeugen. Eine Besonderheit der Maschine ist die AFCL-Technologie (Automatic Flush Control Liquid), mit der das Werkzeug während der Bearbeitung automatisch chemische Reagenzien auf die Läppplattenoberfläche abgeben kann, was die Oberflächengüte und die Gesamtqualität des fertigen Produkts verbessert. Die keramischen Schleifscheiben sind einstellbar, um das richtige Maß an Schleifen und Läppen für jeden Waferprozess erforderlich einzustellen. Die Schleifscheiben haben eine breite Palette von Granulometrie für die Feinabstimmung der Oberflächengüte und Materialabtragung, so dass eine Vielzahl von Oberflächen erreicht werden können. Dieses automatisierte Asset kann von einem einzigen Kontrollpunkt aus betrieben werden und verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, die den Bediener durch den gesamten Prozess führt. Der variable Drehzahlantrieb auf Nano Surface SL910-AFCL ermöglicht eine präzise Kontrolle des Läppvorgangs, wodurch die für den Auftrag erforderliche exakte Oberflächengüte und Dicke leicht erreicht werden kann. Das Modell behält automatisch einen konstanten Druck auf den Wafer bei, um die Extraktion der angegebenen Oberflächengüte und Dicke sicherzustellen. Die Temperatur wird geregelt, um Wärmegewinn auf dem Wafer zu verhindern und thermische Schäden zu minimieren. Die SL910-AFCL Ausrüstung verfügt über eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, die sowohl dem Bediener als auch dem zu bearbeitenden Material Schutz bieten. Ein Doppeltürzugang mit Vakuumsystem verhindert das Austreten von Partikeln in den Arbeitsbereich bei laufender Maschine. Das Gerät ist auch entsprechend den ESD-Anforderungen ausgelegt, um elektrostatische Beschädigungen des Wafers zu verhindern. Insgesamt ist NTS Nano Surface SL910-AFCL eine zuverlässige und effiziente Wafer-Schleif-, Läpp- und Poliermaschine, die hochwertige Silizium-Wafer mit Nanometer-Oberflächenoberflächen herstellen kann. Die automatische Flush Control Liquid-Technologie und andere Funktionen ermöglichen es dem Werkzeug, eine konsistente und präzise Oberfläche auf dem Wafer zu erhalten. Mit seiner intuitiven und benutzerfreundlichen Oberfläche ist das SL910-AFCL eine ideale Bereicherung für eine Vielzahl von Anwendungen.