Gebraucht OBSIDIAN Flatland 501 #65509 zu verkaufen

OBSIDIAN Flatland 501 ist eine Scheibenschleif-, Läpp- und Polierausrüstung, die entwickelt wurde, um ein schnelles, hochpräzises Flachpolieren von großformatigen Halbleiter- und optoelektronischen Bauelementsubstraten zu ermöglichen. Das System behält einen ausgezeichneten Abstand zwischen der Platte und dem Substrat bei und behält gleichzeitig eine hohe Gleichmäßigkeit und Genauigkeit im Schleif- und Polierprozess bei. Die Einheit besteht aus einer einzigen Continuous Flatland Läppmaschine mit einer Zweikopf-Läppscheibenkonfiguration mit integrierter Planetenkopfdrehung. Die motorisch angetriebene Flachland-Läppmaschine verarbeitet jeweils ein Substrat und die Gesamtmaschine ist hochautomatisiert und einfach zu bedienen. Flatland 501 ist mit einem ausgeklügelten Steuerwerkzeug ausgestattet, das eine präzise Kontrolle über alle Prozessparameter bietet, einschließlich der aufgebrachten Kraft, der Vorschubgeschwindigkeit, der zu entfernenden Materialmenge und des Läppwinkels, um eine optimale Leistung und maximale Effektivität im Läpp- und Polierprozess zu gewährleisten. Das Asset verfügt zudem über einen sehr geringen Platzbedarf, der eine effiziente Installation und Bedienung auch in begrenzten Raumumgebungen ermöglicht. Das Modell ist sowohl für Standard- als auch für kundenspezifische Konfigurationen konzipiert und enthält zahlreiche Sicherheitsmerkmale, um die optimale Sicherheit sowohl im Bediener als auch im Substrat zu fördern. Dazu gehören eine Alarmanlage, eine Notfalltaste und ein hygienisches Design mit Schutzabdeckungen, die eine Kontamination des Substrats verhindern. OBSIDIAN Flatland 501 ist ein leistungsstarkes Werkzeug in der Herstellung, das Präzisionslappen und Polieren von Substraten aller Größen bietet. Es wurde entwickelt, um präzise und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen und die Ermüdung des Bedieners, die Prozessvariabilität und die Gesamtkosten zu minimieren. Damit ist es eine ideale Wahl für diejenigen, die eine schnelle, zuverlässige und hochpräzise Lösung für ihre Anforderungen an das Polieren von Substraten suchen.