Gebraucht OKAMOTO GNX 300 #9137636 zu verkaufen

OKAMOTO GNX 300 ist eine fortschrittliche Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung für hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Es ist ideal für eine Vielzahl von Anwendungen wie High Density Integrated Circuit (HDI) Fertigung, Optoelektronik und MEMS Produktion. OKAMOTO GNX300 verwendet einen Schleif-, Läpp- und Polierprozess, der in der Lage ist, Ebenheit, Oberflächenrauhigkeit und andere optische Parameter des Wafers zu verbessern. Die leistungsstarken Schleiffähigkeiten dieser Maschine können verwendet werden, um Kratzer, Späne und andere Fehler von Waferoberflächen zu entfernen. Der Läppvorgang ermöglicht es der Maschine, die erforderliche Ebenheit und Oberflächengüte zu erreichen. In der Zwischenzeit kann mit einem Polierverfahren eine hochreflektierende und gleichmäßige Oberfläche erzeugt werden, die sicherstellt, dass keine Oberflächenfehler oder Rauhigkeiten auftreten. GNX-300 ist mit einer Vielzahl von Funktionen entworfen, um sicherzustellen, dass der Prozess effizient und genau ist. Ein integriertes Be-/Entladesystem ermöglicht einen schnellen und einfachen Wafer-Zugriff und Wechsel. Eine Präzisionsachsenantriebseinheit sorgt auch für eine genaue Bewegung und Positionierung der Komponenten während des Prozesses. Die fortschrittliche Steuerungsmaschine bietet eine intuitive Bedienung für mehr Benutzerfreundlichkeit. GNX 300 verfügt über eine Reihe weiterer Funktionen wie ein automatisches Düsenreinigungs- und Wafer-Montagewerkzeug, ein automatisches Ebenheitsmessgerät und eine Ringleuchte mit Fernbedienung. Es ist auch mit Servomotoren und Präzisionsgebern ausgestattet, die bei der genauen Steuerung der Bewegung der Maschine und der Stabilität helfen können. GNX300 ist ein effizientes und zuverlässiges Modell zum Schleifen, Läppen und Polieren von Wafern, das ideal ist, um qualitativ hochwertige Ergebnisse für eine Vielzahl von Anwendungen zu erzielen. Das umfangreiche Leistungsspektrum und die Genauigkeitsfunktionen sorgen für schnelle und konsistente Ergebnisse bei optimaler Produktivität.