Gebraucht OKAMOTO IGM 15NC III #293811278 zu verkaufen

ID: 293811278
Weinlese: 2014
Grinder Swing table: Φ 600 mm Swing inside chuck cover: Φ 260 mm Minimum processing diameter: Φ 6 to 150 mm Maximum processing length: 125 mm X-Axis: Maximum travel distance (cutting feed): 170 mm Minimum setting unit: Φ 0.0001 mm Grinding feed rate: 0.001-10000 mm/min Rapid forward speed (manual, automatic): 10000 mm/min Z Axis: Maximum movement: 500 mm Minimum setting unit: 0.0001 mm Grinding feed rate: 0.001-15000 mm/min Rapid forward speed (manual, automatic): 15000 mm/min Spindle tip outer diameter: Φ 140 mm g7 Main shaft taper hole: Morse taper Through hole diameter: Φ 50 mm Rotation speed: 100 to 850 min Turning angle: -5° to 15° Wheel spindle (AC Spindle motor): Bil3/10000 Spindle (AC Servo motor): B12/3000iS Wheelhead feed (AC Servo motor): α C8/2000i Table feed (AC servo motor): α C8/2000i Water injection pump: 180W/2P Pumping pump: 180W/2P Automatic liquid temperature regulator: 1740 W (50 Hz) / 2P Dust collector: 400W Frontage: 2525 mm Power supply: 200 V, 8 kVA, 3-Phase, 50/60 Hz 2014 vintage.
OKAMOTO IGM 15NC III ist eine hochpräzise und fortschrittliche Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung für Halbleiter- und Mikroelektronik-Fertigungsanwendungen. Es kombiniert modernste Technologie mit Präzisionstechnik, um außergewöhnliche Leistung und Qualität bei der Verarbeitung von Wafern zu bieten, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Das System ist mit einer Reihe von Funktionen ausgestattet, die es ideal für enge Toleranzen, überlegene Oberflächen und hohe Produktivität in der Waferbearbeitung machen. Mit seiner benutzerfreundlichen Oberfläche und den fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen bietet IGM 15NC III einen effizienten und zuverlässigen Betrieb für kritische Fertigungsprozesse. Diese Einheit ist speziell für das Schleifen, Läppen und Polieren von Wafern ausgelegt, bei denen es sich um Siliziumscheiben handelt, die als Basismaterial für die Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Der Präzisionsschleifprozess entfernt überschüssiges Material von der Waferoberfläche, um das gewünschte Dickenprofil und die Ebenheit zu erreichen, wodurch Gleichmäßigkeit und Konsistenz über den Wafer gewährleistet sind. Die Läpp- und Polierfunktionen von OKAMOTO IGM 15NC III verfeinern die Waferoberfläche weiter, reduzieren die Rauheit und erhöhen die Oberflächenqualität. Diese Verfahren sind wesentlich für die Verbesserung der Leistungsfähigkeit und Zuverlässigkeit von Halbleiterbauelementen durch präzise Dimensionssteuerung und Oberflächenintegrität. Die Maschine verfügt über eine robuste Konstruktion mit einem starren und stabilen Rahmen, um Vibrationen zu minimieren und die Genauigkeit während der Waferbearbeitung zu gewährleisten. Es ist mit hochpräzisen Komponenten wie Luftlagerspindeln, Linearmotoren und Präzisionsmesssystemen ausgestattet, um die Genauigkeit des Submikron-Niveaus in der Waferbearbeitung zu erreichen. IGM 15NC III bietet eine anpassbare Prozessfähigkeit mit programmierbaren Parametern zur Steuerung von Schleif-, Läpp- und Polierparametern basierend auf spezifischen Anforderungen. Diese Flexibilität ermöglicht es Anwendern, Prozessparameter für verschiedene Wafermaterialien, -größen und -anwendungen zu optimieren und überlegene Ergebnisse mit Effizienz und Konsistenz zu liefern. Zusätzlich zu seinen präzisen Verarbeitungsfunktionen ist das Tool auf einfache Wartung und Wartungsfreundlichkeit ausgelegt, um minimale Ausfallzeiten und langfristige Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Es verfügt über erweiterte Diagnosetools und Überwachungssysteme, um Probleme zeitnah zu erkennen und zu beheben, wodurch die Betriebszeit und die Betriebseffizienz maximiert werden. Die integrierten Sicherheitsmerkmale von OKAMOTO IGM 15NC III entsprechen den Industriestandards und -vorschriften, um die Bedienersicherheit zu gewährleisten und empfindliche Komponenten während der Waferbearbeitung zu schützen. Die Anlage wurde mit ergonomischen Überlegungen konzipiert, um den Betreibern ein komfortables und effizientes Arbeitsumfeld zu bieten. Insgesamt ist IGM 15NC III ein hochmodernes Modell zum Schleifen, Läppen und Polieren von Wafern, das beispiellose Präzision, Leistung und Zuverlässigkeit für Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Seine erweiterten Funktionen, benutzerfreundliche Oberfläche und anpassbare Fähigkeiten machen es zu einer idealen Wahl für Hersteller, die eine hochwertige Waferbearbeitung mit Effizienz und Konsistenz erreichen möchten.
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