Gebraucht SPITFIRE 48" Continuous Polisher #9134848 zu verkaufen

Der Spitzfire SPITFIRE 48 "Continuous Polisher ist eine hocheffiziente und leistungsstarke Schleif-, Läpp- und Polieranlage, die für die moderne Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist in der Lage, extrem flache, glatte und präzise Oberflächen schnell und präzise zu produzieren. Das System verfügt über führende Automatisierungsfunktionen wie einen vierachsigen Roboterwerkzeuglader, automatisches Wafer-Handling und eine On-Board-Vision-Inspektionseinheit. Der Spitzfire 48 "Continuous Polisher wurde entwickelt, um große und unregelmäßige Substrate mit Leichtigkeit zu handhaben. Es verfügt über einen dreistufigen Schleifprozess; Läppen und Polieren, das höchste Genauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Die Maschine beinhaltet auch das flächige Schleifen von bis zu fünf Wafern in einem Arbeitsgang; ein einzigartiges Merkmal unter den Nassschleifsystemen. Der Polierer ist mit einem leistungsstarken 80-PS-Motor und fortschrittlichen Steuerungen ausgestattet, die ein präzises und konsistentes Wafer-Polieren gewährleisten. Es ist ferner mit einem automatisierten Wasserförderwerkzeug ausgestattet, um die Schmierwirkung der abrasiven Medien zu optimieren und einen konsistenten und wiederholbaren Betrieb zu gewährleisten. Es verfügt auch über eine spezielle Luftstrahl-Asset, um den Wafer zu kühlen, wie es poliert wird. Das Modell ist auch sehr einfach zu bedienen und mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche zu warten. Es bietet eine Reihe von erweiterten grafischen Visualisierungen, die helfen, Problembereiche zu identifizieren und den Bediener zur besten Lösung zu führen. Die Maschine kann schnell und einfach für jede spezifische Anwendung eingerichtet und konfiguriert werden. Der Spitzfire SPITFIRE 48 "Continuous Polisher ist ein hochentwickeltes und effizientes Wafer-Poliergerät, das beispiellose Leistung bietet. Mit seiner fortschrittlichen Automatisierung und benutzerfreundlichen Bedienung ist das System ideal für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Es wurde entwickelt, um überlegene Wafer-Polierergebnisse in einem Bruchteil der Zeit anderer Systeme zu liefern.