Gebraucht WILSON / ROCKWELL 3JR #9293108 zu verkaufen
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WILSON/ROCKWELL 3JR ist eine Wafer-Schleif-, Läpp- und Polierausrüstung, die den strengen Anforderungen der modernen Halbleiter- und Optoelektronik-Fertigung gerecht wird. Dieses System nutzt fortschrittliche Technologien, um Präzisionsoberflächen, genaue Ebenheit und extrem niedrige Kratzdichte bereitzustellen. Es ist so konzipiert, dass es hoch kontrollierbar und zuverlässig ist, um sicherzustellen, dass es konstant hervorragende Ergebnisse in sensiblen Anwendungen liefert. Dieses Gerät verfügt über eine Reihe modernster Komponenten, darunter: eine Präzisionsschleifmaschine, ein Schleifbandschleifkopf, eine Läppscheibe und zwei Polierkissen. Der Schleifkopf verwendet einen hochpräzisen Schrittmotor und Encoder, um eine hohe Wiederholbarkeit zu erzielen. Das Einschleifband wird direkt vom Schleifkopf angetrieben, wodurch während des gesamten Betriebs eine kontrollierbare Materialabfuhrrate gewährleistet ist. Das Läpprad ist hochgenau und bietet ausgezeichnete Planheit und geringe Beanspruchung des Wafers. Zwei verschiedene Polierpads sind verfügbar, optimiert für Hochspannungs-Ionenfräsen-basiertes Polieren oder chemisch-mechanisches Polieren (CMP). WILSON 3JR Wafer Schleif-, Läpp- und Polierwerkzeug hat eine kompakte Stellfläche, geringe Geräuschleistung und kann sowohl in vertikalen als auch in horizontalen Operationen verwendet werden. Seine intuitive industrielle Steuerung ermöglicht eine einfache Integration in bestehende Produktionsanlagen und seine benutzerfreundliche Software bietet schnelle Parameteranpassungsfunktionen. Das Modell verfügt zudem über einen integrierten Störeinsatz zwischen Schleifkopf und Läppscheibe, der eine sichere und zuverlässige Verbindung auch unter rauen industriellen Bedingungen ermöglicht. Insgesamt bietet ROCKWELL 3JR eine hervorragende Flexibilität und Präzision und ist damit eine ideale Wahl für eine Vielzahl empfindlicher Fertigungsanwendungen für Halbleiter und Optoelektronik. Es wurde entwickelt, um überlegene Zuverlässigkeit, erhöhte Effizienz und präzise Oberflächenveredelungen zu bieten. Durch die Kombination dieser Ausrüstung mit den richtigen chemisch-mechanischen Polierlösungen können Hersteller die Vorteile eines Wafer-Schleif-, Läpp- und Poliersystems nutzen, das in der Lage ist, in einer Vielzahl von Anwendungen hervorragende Ergebnisse zu erzielen.
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