Gebraucht ASYST VersaPort 2200 Shuttle #293748971 zu verkaufen

ASYST VersaPort 2200 Shuttle
ID: 293748971
Load ports.
ASYST VersaPort 2200 Shuttle ist ein vollautomatisches Wafer-Handling-Gerät, das in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es ist für Anwendungen mit hohem Durchsatz konzipiert, mit der Fähigkeit, Wafer schnell zu sammeln und zu verarbeiten und gleichzeitig sauber und unbeschädigt zu halten. VersaPort 2200 Shuttle besteht aus einem intelligenten mechanischen Arm, der in der Lage ist, eine präzise Bewegung entlang der x-, y- und z-Achsen zu erzielen, wodurch eine 3D-Bewegungsfähigkeit entsteht. Es ist so ausgelegt, dass sich der Arm nur bei Bedarf bewegt, um sicherzustellen, dass die Wafer sauber und unbeschädigt bleiben. Das System umfasst auch einen Waferempfänger und eine Austauschstation, wo Wafer schnell zwischen verschiedenen Kassetten und Kammern bewegt werden können. ASYST VersaPort 2200 Shuttle verfügt über erweiterte Softwarefunktionen, die einen effizienten Workflow während des gesamten Verarbeitungszyklus gewährleisten. Es kann gleichzeitig bis zu 4 Wafer verarbeiten und mit mehreren Partnersystemen kommunizieren, so dass es andere Geräte im Halbleiterprozess anschließen und steuern kann. Seine einzigartige Vision-Einheit, integriert mit einer Digitalkamera, erkennt Wafer aufgrund ihrer Art und Dicke und passt dann die Prozessorbelastung und -betrieb entsprechend an. VersaPort 2200 Shuttle ist mit Geräuschdämpfung und Anti-Vibrations-Komponenten ausgestattet, die einen ruhigen Betrieb in jeder Umgebung gewährleisten. Die Maschine ist schwer zugänglich und kann nur durch einen speziellen PIN-Code geöffnet werden. Dadurch werden unbefugte Eingriffe in das Werkzeug verhindert. ASYST VersaPort 2200 Shuttle ist außerordentlich zuverlässig und gewährleistet gleichbleibend hochwertige Ergebnisse und erfüllt gleichzeitig die strengen Anforderungen der Branche an Sauberkeit. Die Anlage ist in der Lage, sehr schnelle Durchsatzraten, niedrige Partikelverunreinigungen und hervorragende Flexibilität und Skalierbarkeit zu erzielen, was sie zu einer idealen Wahl für jeden Halbleiterprozess macht.
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