Gebraucht ACCORD 400 #293656296 zu verkaufen

Hersteller
ACCORD
Modell
400
ID: 293656296
Substrate cleaner.
ACCORD 400 ist ein Wafer- und Maskenwäscher für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Diese Maschine wird verwendet, um die Oberfläche eines Wafers oder einer Maske zu reinigen und zu schrubben, um Rückstände aus dem Ätzen oder anderen Prozessen zu entfernen. Es ist eine hochautomatisierte Ausrüstung mit integrierten Laser- und optischen Inspektionsmöglichkeiten. Dieser Wafer- und Maskenwäscher besteht aus einem Edelstahlrahmen und einer Reihe von rotierenden Scheiben. Die Laufwerke werden vom Gleichstrommotor angetrieben und sind für einstellbare Drehzahlen ausgelegt. Der Wäscher hat eine kontrollierte Umgebung und soll die Kreuzkontamination der Wafer- oder Maskenoberfläche reduzieren. Der Wäscher verfügt auch über ein Zugantriebssystem mit Kugellagern und ist so konzipiert, dass er maximalen Schrubbdruck liefert. 400 ist mit einer hochmodernen Laser- und optischen Inspektionseinheit ausgestattet. Diese Maschine untersucht die Oberfläche des Wafers oder der Maske auf Defekte und kann programmiert werden, um Unterschiede in der Oberflächenstruktur oder auch mikroskopische Partikel zu erkennen. Darüber hinaus verfügt der Scrubber über integrierte Prozess- und Produktionsüberwachungssysteme mit integriertem SPC (statistical process control). Auf diese Weise kann der Wäscher die Konsistenz des Waschvorgangs überwachen und etwaige nicht übereinstimmende Merkmale erkennen. Der Schrubber verfügt auch über zwei Arten von Polierköpfen; einen flachen Kopf und einen Eckkopf. Der flache Kopf ist ideal für ebene Flächen wie die Oberfläche eines Wafers, während der Eckkopf besser für Bereiche mit komplexen Formen oder Merkmalen geeignet ist. Die einstellbare Geschwindigkeit des Wäschers sorgt dafür, dass der Wafer oder die Maske am effizientesten auf das erforderliche Niveau poliert wird. Die ACCORD 400 verfügt außerdem über ein Feuchtigkeitsregelwerkzeug, das sicherstellt, dass die Umgebung des Waschvorgangs innerhalb der erforderlichen Parameter gehalten wird. Darüber hinaus verfügt der Wäscher auch über eine Staubsammelanlage, die alle während des Waschvorgangs entstandenen Partikel erfasst. Dieses Staubsammelmodell sorgt dafür, dass die gewaschenen Oberflächen frei von Staub oder anderen Verunreinigungen sind. 400 Wafer und Maskenwäscher ist eine ausgezeichnete Wahl für die Halbleiterindustrie, da sie Genauigkeit und Konsistenz im Waschprozess gewährleistet und dazu beiträgt, Abfall zu reduzieren und die Produktivität zu steigern. Die Maschine ist vollautomatisiert und verfügt über integrierte Laser- und optische Inspektionsmöglichkeiten, einstellbare Waschgeschwindigkeit sowie eine Staubsammel- und Feuchtigkeitskontrollausrüstung.
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