Gebraucht ACCRETECH / TSK A-CS-100A #9100956 zu verkaufen

ACCRETECH / TSK A-CS-100A
ID: 9100956
Manual spin cleaner, 4"-8", 2007 vintage.
ACCRETECH/TSK A-CS-100A ist ein fortschrittlicher Wafer- und Maskenwäscher. Es ist eine hocheffiziente, robuste und zuverlässige Maschine für Materialien auf jeder Art von Wafer- und Substratoberflächen. Der Wäscher sprüht mit zwei Hochdruckdüsen eine Waschmittellösung auf die Oberfläche des Wafers oder Substrats. Die Waschmittelmischung dient der Entfernung von Verunreinigungen wie Staub, Schmutz und anderen Verschmutzungen, die den Wafer oder das Substrat einer möglichen Beschädigung aussetzen können. Das Nukleationssystem soll die Blasenbildung reduzieren und den Schaum auf der Oberfläche von Wafer und Substrat reduzieren. TSK A-CS-100A scrubber wurde entwickelt, um mit allen Arten von dünnen Filmen und Wafern zu arbeiten, einschließlich MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems), Photomasken und Masken, die in der Halbleiterverarbeitung verwendet werden. Es ist ein präzises Instrument für aufgabenkritische Anwendungen, wie sie in der Elektronikindustrie eingesetzt werden. Der Wäscher wird durch den hochwertigen Luftvorhang, der sowohl das Innere des Wäschers als auch die Außenflächen schützt, vor Umweltverschmutzung geschützt. ACCRETECH A-CS-100A scrubber verwendet einen 300 Watt Hochdruckmotor, um eine Vielzahl von Reinigungsmitteln und Reinigungslösungen anzutreiben, um Partikel (Staub und Schmutz) von der Wafer- und Substratoberfläche zu entfernen. Dadurch werden eingefangene Partikel entfernt, die den Prozess stören oder die Qualität des Wafers oder der Maske beschädigen können. Der Wäscher ist mit einem Durchflussregelventil für präzise Anpassungen der Leistungseinstellungen und manuelle Übersteuerungsfunktionen ausgestattet. Der Scrubber ist mit einem einfach zu bedienenden Controller, einem digitalen Timer und einem Temperaturindikator ausgestattet, um eine präzise Kontrolle der Leistung des Scrubbers zu gewährleisten. Der Temperaturindikator ist für verschiedene Typen von Substratmaterialien einstellbar und für jedes Wafer- oder Substratmaterial innerhalb eines Grades einstellbar. Dies trägt zur Genauigkeit und Effizienz der Leistung des Wäschers bei. A-CS-100A ist für den manuellen Betrieb bei 5,5 Litern/Minute ausgelegt, wobei ein 6,5 Liter/Minute-Modus für den industriellen und semiautomatischen Betrieb zur Verfügung steht. Der manuelle Zyklus hat auch eine einstellbare Druckeinstellung, die eine höhere Präzision und Kontrolle ermöglicht. Darüber hinaus verfügt der Wäscher über eine Sprühimpulstechnologie und ein einzigartiges Bordabfallsammelsystem zur Sammlung und Verwaltung der im Reinigungsprozess des Wäschers anfallenden Abfälle und Spülwasser. ACCRETECH/TSK A-CS-100A scrubber ist eine leistungsstarke, benutzerfreundliche und gut gestaltete Maschine. Das breite Spektrum an Funktionen und Einstellungen macht es ideal für eine Vielzahl von Branchen und Anwendungen. Von der Halbleitermaskenreinigung bis zur MEMS-Waferreinigung ist der Wäscher auf die anspruchsvollsten Anwendungen ausgelegt. Der Wäscher ist für einfache Wartung und Reinigung konzipiert, so dass es eine gute Wahl für die Aufrechterhaltung der Qualität und die Wirksamkeit des Wafer- und Substratreinigungsprozesses.
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