Gebraucht ATIS Miracle #9020509 zu verkaufen

ATIS Miracle ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der entwickelt wurde, um Partikel und Verunreinigungen von Siliziumscheiben, Photomasken und anderen speziellen Substraten schnell zu reinigen, zu entfernen. Dieses innovative System verwendet eine Kombination aus chemischen, mechanischen und elektrischen Prozessen, um eine intensive Reinigungswirkung zu erzeugen, die für das Substrat nicht gefährlich ist. Wunder beginnt mit einem chemischen Bad einer proprietären Reinigungslösung. Diese wässrige Reinigungslösung ist speziell formuliert, um Partikel, organische und anorganische Verunreinigungen und andere Abfälle von den Oberflächen Ihres Substrats abzubauen. Auch die hartnäckigsten organischen Rückstände können mit diesem Schritt schnell und einfach entfernt werden. Der nächste Schritt des ATIS Miracle Prozesses ist das mechanische Waschen. Ein Scheuerstab wird von einer motorisierten Plattform angetrieben, die die Oberfläche Ihres Substrats sanft schrubbt. Der Scheuerstab soll hartnäckige Partikel von der Oberfläche abheben, ohne das empfindliche Substrat zu kratzen oder zu beschädigen. Der letzte Schritt des Miracle-Prozesses ist die elektrische Reinigung. Durch Aufbringen einer elektrischen Ladung auf das Substrat werden Verunreinigungen neutralisiert und weiter vom Substrat abgehoben. Dieser elektrische Reinigungsschritt kann helfen, die ursprüngliche Form und Funktion Ihres Substrats wiederherzustellen und selbst die hartnäckigsten Partikel zu entfernen. ATIS Miracle ist ein revolutionäres Reinigungssystem, das Partikel und Verunreinigungen schnell von Substraten entfernen kann. Es arbeitet mit einer Kombination aus chemischen, mechanischen und elektrischen Prozessen, die zusammenarbeiten, um hervorragende Reinigungsergebnisse zu erzielen. Das System ist ungefährlich und kann schnell und effektiv Partikel, organische und anorganische Verunreinigungen und andere Abfälle von der Oberfläche Ihres Substrats abbauen. Wunder kann Substrate wieder in ihre ursprüngliche Form und Funktion bringen und ist die ideale Reinigungslösung für jedes einzigartige oder spezielle Substrat.