Gebraucht ATTO ATS 601-AT #9249407 zu verkaufen

ATTO ATS 601-AT Automatic Wafer and Mask Scrubber ist ein automatisiertes Präzisionswerkzeug, das entwickelt wurde, um alle Arten von Wafer- und Maskenmaterialien schnell und effektiv zu schrubben und zu reinigen. Ideal für die Optimierung von Nachbearbeitungszyklen und die Reinigung nach dem Sägen, garantiert dieser Wäscher Präzision, Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit für eine optimale Partikelentfernung. ATS 601-AT verwendet ein Hochdruckfluidsystem in Kombination mit Ultraschallwandlern, um eine leistungsstarke, sichere und effektive Waschmethode zu schaffen, um Partikel, Oxid, Staub und andere Kontaminate von der Oberfläche von Wafern und Masken zu entfernen. Der Schrubber bietet einstellbaren Druck, Frequenz und Volumen sowie bedienergesteuerte Scheuerköpfe aus PTFE, die speziell darauf ausgelegt sind, die Oberfläche von Wafer und Maske nicht zu beschädigen. Der Scrubber verfügt über eine fortschrittliche Programmierung für den unbeaufsichtigten Betrieb, so dass mehrere Scrub-Bereiche gleichzeitig für eine optimale Reinigung ausgeführt werden können. Die integrierten Anschlussports ermöglichen die Integration mit Netzwerksystemen für eine verbesserte Prozesssteuerung. ATTO ATS 601-AT bietet auch ein erweitertes Steuerungssystem und integrierte Sicherheitsfunktionen. Das Design dieses Schrubbers ist robust und geräumig, mit einem großzügigen zwei Fuß von drei Fuß Edelstahl Arbeitsdeck. Seine verstärkten Lager und starre Stahlkonstruktion sorgen für überlegene Stabilität und Präzision während des Betriebs. Es ist auch für geringe Geräusche und Vibrationen konzipiert und schafft eine ruhige und komfortable Arbeitsumgebung. ATS 601-AT ist zudem energieeffizient, was den Betrieb äußerst wirtschaftlich und extrem zuverlässig macht und wartungsfrei ist, um minimale Ausfallzeiten zu gewährleisten. Darüber hinaus erfüllt es alle europäischen Sicherheitsstandards und ist somit ideal für Reinraumanwendungen geeignet. ATTO ATS 601-AT führt Wafer und Maske Wäsche schneller als andere Modelle, so dass die Besitzer garantiert Effizienz in der Nachbearbeitung Zyklen und Partikelentfernung, alle bei gleichzeitiger Energieeffizienz und entwickelt, um in einer Vielzahl von Arbeitsumgebungen verwendet werden. Es bietet spezialisierte Lösungen, die auf den Anforderungen der Anwendung basieren, und seine überlegenen Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für das Schrubben aller Arten von Wafer- und Maskenmaterialien.