Gebraucht BELIMED WD 230 #9100615 zu verkaufen

BELIMED WD 230
ID: 9100615
Glassware washer.
BELIMED WD 230 ist ein professioneller, leistungsstarker Wafer- und Maskenwäscher, der den strengen Anforderungen der heutigen Halbleiterindustrie gerecht wird. Diese vielseitige und effiziente Maschine ist in der Lage, Wafer und Masken verschiedener Größen und Substrate zu reinigen, darunter bis zu 200mm Siliziumscheiben, bis zu 300mm Saphirscheiben sowie Standardmaskensubstrate wie Quarz und Glas. Es bietet eine komplette Prozessumgebung, die sauber, trocken und partikelfrei ist. WD 230 verwendet einen zweistufigen, stark integrierten Waschprozess, um zuverlässige und qualitativ hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten. Die erste Stufe verwendet ein leistungsstarkes Spray aus Wasser und Reinigungsmittellösung, das speziell entwickelt wurde, um Verunreinigungen und Abfälle schnell zu entfernen. Je nach Anwendung kann das Reinigungsmittel auf eine optimale Leistung in einer Reihe von Partikel- und Beschichtungsentfernungsszenarien zugeschnitten werden. Zusätzlich kann ein optionales Hot Clean Ultraschallverfahren zum Polieren verwendet werden, um hartnäckige Rückstände zu entfernen. Die zweite Stufe des Waschprozesses verwendet funkelndes sauberes entionisiertes Wasser, um eine effiziente Spülung des Wafers oder der Maske zu ermöglichen. Dies ist wichtig, um Restwaschmittel zu beseitigen, Wasserflecken zu reduzieren und ein effektives Reinigungsergebnis zu erzielen. Neben der automatisierten Reinigung bietet BELIMED WD 230 auch manuelle Waschmöglichkeiten und ein ergonomisches Design für mehr Bedienkomfort. Es verfügt über benutzerfreundliche Bedienelemente, bequemen Zugang für Reinigung und Wartung und ein optionales Fernbedienungssystem für den Boden des Unternehmens. Die WD 230 bietet auch eine fortschrittliche Diagnose, ein integriertes Wasserfiltersystem sowie eine präzise Temperatur- und Feuchtigkeitsregelung. Zusammenfassend ist BELIMED WD 230 ein effektiver und effizienter Wafer- und Maskenwäscher, der den Reinigungs- und Polieranforderungen der anspruchsvollsten Halbleiteranwendungen gerecht wird. Es bietet eine umfassende Prozesslösung, die zuverlässig, präzise und sauber ist.
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